特許
J-GLOBAL ID：200903083554743321

ネガ型レジスト組成物

発明者：
阿出川 豊

阿出川 豊 について


出願人/特許権者：
富士写真フイルム株式会社

富士写真フイルム株式会社 について


代理人 (5件)： 小栗 昌平 ,  本多 弘徳 ,  市川 利光 ,  高松 猛 ,  栗宇 百合子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-262775
公開番号（公開出願番号）：特開2004-101811
出願日： 2002年09月09日
公開日（公表日）： 2004年04月02日
要約：
【課題】電子線、X線又はEUVの照射によるパターン形成において、高感度、高解像力で、現像欠陥が低減されたネガ型レジスト組成物を提供する。【解決手段】アルカリ可溶性樹脂、酸を発生する化合物、架橋剤を含有するレジスト組成物において、該アルカリ可溶性樹脂がブロック単位Aとブロック単位Bを有するブロックコポリマーで、ともにアルカリ可溶性基を有する繰り返し単位を含有するものであり、かつ、下記の条件のうちいずれか1つを満たすものであるネガ型レジスト組成物。ブロック単位Aとブロック単位Bは(a)アルカリ可溶性基の種類が異なる。(b)ブロック単位質量あたりのアルカリ可溶性基の含有量が異なる。(c)いずれもアルカリ可溶性基を有しない繰り返し単位を有し、ブロック単位Aにおけるアルカリ可溶性基を有しない繰り返し単位とブロック単位Bにおけるアルカリ可溶性基を有しない繰り返し単位とで親疎水性が異なる。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
(A)アルカリ可溶性樹脂、 (B)活性放射線の照射により酸を発生する化合物、及び、 (C)酸の作用により架橋する架橋剤を含有するレジスト組成物において、 該アルカリ可溶性樹脂がブロック単位Aとブロック単位Bを有するブロックコポリマーであり、ブロック単位A及びブロック単位Bはともにアルカリ可溶性基を有する繰り返し単位を含有するものであり、かつ、下記の条件のうちいずれか1つを満たすものであることを特徴とするネガ型レジスト組成物。 (a)ブロック単位Aとブロック単位Bのアルカリ可溶性基の種類が異なる。 (b)ブロック単位Aとブロック単位Bのアルカリ可溶性基の含有量が異なる。 (c)ブロック単位Aとブロック単位Bは、いずれもアルカリ可溶性基を有しない繰り返し単位を有し、ブロック単位Aにおけるアルカリ可溶性基を有しない繰り返し単位とブロック単位Bにおけるアルカリ可溶性基を有しない繰り返し単位とで親疎水性が異なる。
IPC (4件)：
G03F7/038 ,  C08F297/02 ,  G03F7/033 ,  H01L21/027
FI (4件)：
G03F7/038 601 ,  C08F297/02 ,  G03F7/033 ,  H01L21/30 502R
Fターム (19件)：
2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD01 ,  2H025BE00 ,  2H025CB17 ,  2H025CB41 ,  2H025CB42 ,  2H025CB55 ,  2H025CC17 ,  4J026HA06 ,  4J026HA26 ,  4J026HA39 ,  4J026HB06 ,  4J026HB26 ,  4J026HB39 ,  4J026HE01
引用特許：
審査官引用 (4件)
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