感光性組成物及びパターンの製造方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：小田島平吉 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-119234
公開番号（公開出願番号）：特開平6-308733
出願日： 1993年04月23日
公開日（公表日）： 1994年11月04日
要約：

【要約】【目的】高解像度で、微細画像パターン形成能に優れたポジ型フオトレジスト、印刷材料等に有用な感光性組成物及びそれを用いたパターンの製造方法を提供する。【構成】 A)カルボキシル基又はカルボキシル基とヒドロキシフエニル基を含有する重合体、B)一分子中に1個のビニルエーテル基を含有する化合物、及びC)活性エネルギー線照射により酸を発生する化合物を必須成分として含むことを特徴とする感光性組成物及びそれを用いたパターンの製造方法。

請求項（抜粋）：

A)カルボキシル基又はカルボキシル基とヒドロキシフエニル基を含有する重合体、B)一分子中に1個のビニルエーテル基を含有する化合物、及びC)活性エネルギー線照射により酸を発生する化合物を必須成分として含むことを特徴とする感光性組成物。

IPC (7件)：

G03F 7/039 501 , C09D 5/44 PRG , C09D 5/44 PRL , G03F 7/004 503 , G03F 7/029 , H01L 21/027 , H05K 3/00

引用特許：

審査官引用 (6件)

特開平1-106038
特開昭55-012995
特開昭48-089003

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