特許
J-GLOBAL ID：200903083640791754

レーザーアブレージョン用ターゲットおよびその製造方法

発明者：
小嶋 正大

小嶋 正大 について


出願人/特許権者：
DOWAホールディングス株式会社

DOWAホールディングス株式会社 について


代理人 (2件)： 阿仁屋 節雄 ,  清野 仁
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-252614
公開番号（公開出願番号）：特開2007-063631
出願日： 2005年08月31日
公開日（公表日）： 2007年03月15日
要約：
【課題】 バッキングプレートにボンディングすることなくレーザーアブレージョン法に適用可能なターゲットとして使用できるRE系酸化物超電導焼結体、およびその製造方法を提供する。【解決手段】 各種粉末または溶液を準備し、RE系酸化物超電導体の組成式をRE Bab Cuc Oxと標記した時に、a+b+c=6、0.95<a<1.05、1.505≦c/b<1.6となるように、秤量、混合した後、仮焼、粉砕、焼成、粉砕、成形をおこなって、RE系酸化物超電導焼結体を得、該RE系酸化物超電導焼結体をレーザーアブレージョン用ターゲットとして使用する。【選択図】 図2
請求項（抜粋）：
一般式REaBabCucOx(但し、REは、イットリウムおよび/または希土類元素)で標記されるRE系酸化物超電導焼結体を含むレーザーアブレージョン用ターゲットであって、 a+b+c=6、0.95<a<1.05、1.505≦c/b<1.6であり、当該酸化物超電導焼結体に含まれる酸化物超電導結晶粒子の粒界に、酸化銅および/または銅を含んだ酸化物および/またはBa-Cu化合物の析出相が存在することを特徴とするレーザーアブレージョン用ターゲット。
IPC (3件)：
C23C 14/24 ,  C04B 35/45 ,  C01G 1/00
FI (3件)：
C23C14/24 E ,  C04B35/00 K ,  C01G1/00 S
Fターム (24件)：
4G030AA10 ,  4G030AA11 ,  4G030AA12 ,  4G030AA31 ,  4G030BA02 ,  4G030CA05 ,  4G030GA01 ,  4G030GA04 ,  4G030GA08 ,  4G030GA22 ,  4G030GA25 ,  4G030GA27 ,  4G047JA02 ,  4G047JC02 ,  4G047KB05 ,  4G047KE02 ,  4K029AA04 ,  4K029AA24 ,  4K029BA50 ,  4K029BC04 ,  4K029CA01 ,  4K029DB05 ,  4K029DB20 ,  4K029GA01
引用特許：
出願人引用 (1件)
  • 特開平1-141867号公報
審査官引用 (3件)
引用文献：
審査官引用 (3件)

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