特許
J-GLOBAL ID：200903083832242576

基板処理装置及び基板処理方法

発明者：
高橋 正俊

高橋 正俊 について

, 
原 一雄

原 一雄 について

, 
大塚 寛之

大塚 寛之 について

, 
石川 直揮

石川 直揮 について


出願人/特許権者：
信越半導体株式会社

信越半導体株式会社 について

, 
信越化学工業株式会社

信越化学工業株式会社 について


代理人 (1件)： 好宮 幹夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-108597
公開番号（公開出願番号）：特開2007-281342
出願日： 2006年04月11日
公開日（公表日）： 2007年10月25日
要約：
【課題】 処理槽から基板収納容器を引き上げる際に、基板収納容器に収納された基板同士が吸着することを防止することができる基板処理装置及び基板処理方法を提供することを目的とする。【解決手段】 少なくとも、対向する側部の内側に夫々複数の保持溝を有し、底部に開口部を有する基板収納容器と、内部に処理液を保持する処理槽とを具備し、前記保持溝に複数の基板を各々縦向きで並列に保持した基板収納容器を前記処理槽に保持された前記処理液に浸漬して前記複数の基板を同時に処理する基板処理装置であって、前記処理槽は、その底部に、上に凸形状であり、上端部で前記基板の下端部を支持する支持具を1つ以上具備するものであり、前記基板収納容器の底部の開口部を、前記支持具に挿入することによって、前記基板収納容器に保持された複数の基板を同時に持ち上げて保持することができるものである基板処理装置及びこれを用いた基板処理方法。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
少なくとも、対向する側部の内側に夫々複数の保持溝を有し、底部に開口部を有する基板収納容器と、内部に処理液を保持する処理槽とを具備し、前記保持溝に複数の基板を各々縦向きで並列に保持した基板収納容器を前記処理槽に保持された前記処理液に浸漬して前記複数の基板を同時に処理する基板処理装置であって、前記処理槽は、その底部に、上に凸形状であり、上端部で前記基板の下端部を支持する支持具を1つ以上具備するものであり、前記基板収納容器の底部の開口部を、前記支持具に挿入することによって、前記基板収納容器に保持された複数の基板を同時に持ち上げて保持して処理することができるものであることを特徴とする基板処理装置。
IPC (6件)：
H01L 21/304 ,  H01L 21/027 ,  B08B 3/12 ,  B08B 3/02 ,  B08B 3/10 ,  H01L 21/306
FI (9件)：
H01L21/304 648D ,  H01L21/30 569B ,  H01L21/30 572B ,  H01L21/304 642E ,  B08B3/12 A ,  B08B3/02 B ,  H01L21/304 642D ,  B08B3/10 Z ,  H01L21/306 J
Fターム (19件)：
3B201AA02 ,  3B201AA03 ,  3B201AB38 ,  3B201AB44 ,  3B201BB02 ,  3B201BB03 ,  3B201BB22 ,  3B201BB32 ,  3B201BB82 ,  3B201BB85 ,  3B201BB92 ,  3B201CB01 ,  5F043EE02 ,  5F043EE05 ,  5F043EE09 ,  5F043EE35 ,  5F046LA09 ,  5F046MA06 ,  5F046MA10
引用特許：
出願人引用 (1件)
  • 基板保持具及び洗浄装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-019820   出願人：東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン九州株式会社
審査官引用 (3件)

前のページに戻る

TOP

BOTTOM