特許
J-GLOBAL ID：200903083856767092

パターン形成方法

発明者：
若田 裕一

若田 裕一 について

, 
石川 弘美

石川 弘美 について

, 
下山 裕司

下山 裕司 について


出願人/特許権者：
富士写真フイルム株式会社

富士写真フイルム株式会社 について


代理人 (3件)： 廣田 浩一 ,  流 良広 ,  松田 奈緒子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-288744
公開番号（公開出願番号）：特開2006-106083
出願日： 2004年09月30日
公開日（公表日）： 2006年04月20日
要約：
【課題】 前記パターン形成材料上に結像させる像の歪みを抑制することにより、フォトポリマー系感材を用いて形成させるパターンを高精細に、かつ、効率よく形成可能なパターン形成方法の提供。 【解決手段】 アルカリ可溶性樹脂と、光酸発生剤と、及び架橋剤と、を含む感光層に対し、光照射手段からの光を受光し出射する描素部をn個有する光変調手段により、前記光照射手段からの光を変調させた後、前記描素部における出射面の歪みによる収差を補正可能な非球面を有するマイクロレンズを配列したマイクロレンズアレイを通して露光を行うことを含むことを特徴とするパターン形成方法である。該非球面は、トーリック面であることが好ましい。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
アルカリ可溶性樹脂と、光酸発生剤と、及び架橋剤と、を含む感光層に対し、 光照射手段からの光を受光し出射する描素部をn個有する光変調手段により、前記光照射手段からの光を変調させた後、前記描素部における出射面の歪みによる収差を補正可能な非球面を有するマイクロレンズを配列したマイクロレンズアレイを通して露光を行うことを含むことを特徴とするパターン形成方法。
IPC (4件)：
G03F 7/20 ,  G02B 3/00 ,  G03F 7/038 ,  H01L 21/027
FI (4件)：
G03F7/20 501 ,  G02B3/00 A ,  G03F7/038 601 ,  H01L21/30 529
Fターム (24件)：
2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AB11 ,  2H025AB15 ,  2H025AC08 ,  2H025AD01 ,  2H025BE00 ,  2H025CB16 ,  2H025CB17 ,  2H025CB28 ,  2H025CB43 ,  2H025CB45 ,  2H025CC17 ,  2H025CC20 ,  2H025EA08 ,  2H025FA03 ,  2H025FA17 ,  2H097AA03 ,  2H097BA06 ,  2H097CA17 ,  2H097FA00 ,  2H097LA20 ,  5F046BA07 ,  5F046CB01
引用特許：
出願人引用 (3件)

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