マーク位置検出装置及び方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-273229
公開番号（公開出願番号）：特開平10-125572
出願日： 1996年10月16日
公開日（公表日）： 1998年05月15日
要約：

【要約】【課題】基板と集光光学系との間に配された偏向部材における検出光の位相飛びに起因する検出誤差を補正する。【解決手段】基板上の位置合わせマークの位置を検出するマーク位置検出装置であって、該基板上の位置合わせマークからの検出光を集光するための集光光学系と、該集光光学系で集光された該検出光を検出する光検出装置と、該マークと該集光光学系との間の光路中に配されて該検出光を偏向する偏向部材と、該偏向部材の偏向面における該検出光の位相飛びにより生じる該検出光の偏光成分間の波面変化を補償するように構成され、該マークと該光検出装置との間の光路中に配された偏光補償光学系とを備える、マーク位置検出装置。

請求項（抜粋）：

基板上の位置合わせマークの位置を検出するマーク位置検出装置であって、該基板上の位置合わせマークからの検出光を集光するための集光光学系と、該集光光学系で集光された該検出光を検出する光検出装置と、該マークと該集光光学系との間の光路中に配されて該検出光を偏向する偏向部材と、該偏向部材の偏向面における該検出光の位相飛びにより生じる該検出光の偏光成分間の波面変化を補償するように構成され、該マークと該光検出装置との間の光路中に配された偏光補償光学系とを備える、マーク位置検出装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 , G03F 9/00

FI (4件)：

H01L 21/30 525 R , G03F 9/00 H , H01L 21/30 525 N , H01L 21/30 525 W

引用特許：

出願人引用 (4件)

位置検出装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-190503 出願人：株式会社ニコン
位置合わせ方法及び装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-183636 出願人：富士通株式会社
特開昭56-024504

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