特許
J-GLOBAL ID：200903084191149933

ガスの透過を減少させるために基材上に薄いガラス様の被膜を形成する方法

発明者：
ブラント・シュテファン

ブラント・シュテファン について

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ディードルフ・アンドレアス

ディードルフ・アンドレアス について

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リーベ・フーベルト

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オステロト・フランク

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シュトヤノヴィック・ザンドラ

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プラーガー・ルッツ

プラーガー・ルッツ について

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メーネルト・ライナー

メーネルト・ライナー について

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ブーフマイザー・ミヒャエル・エル

ブーフマイザー・ミヒャエル・エル について


出願人/特許権者：
クラリアント・インターナシヨナル・リミテッド

クラリアント・インターナシヨナル・リミテッド について


代理人 (3件)： 江崎 光史 ,  奥村 義道 ,  鍛冶澤 實
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-523167
公開番号（公開出願番号）：特表2009-503157
出願日： 2006年07月08日
公開日（公表日）： 2009年01月29日
要約：
a)次式(I) -(SiR'R''-NR''')n- (1)[式中、R'、R''、R'''は、同一かまたは異なり、互いに独立して、水素、あるいは場合によっては置換されたアルキル基、アリール基、ビニル基または(トリアルコキシシリル)アルキル基を表し、この際、nは整数であり、そしてnは、該ポリシラザンが150〜150,000g/モルの数平均分子量を有するように定めされる]で表されるポリシラザン、及びb)有機溶剤中の触媒、を含む溶液で基材を被覆し、次いで溶剤を蒸発させて除去し、それによって0.05〜3.0μmの層厚のポリシラザン層を基材上に残し、そして水蒸気を含む雰囲気中において、酸素、活性酸素、場合によっては及び窒素の存在下において、上記のポリシラザン層を、<230nmの波長成分を含むVUV放射線及び230〜300nmの波長成分を含むUV放射線で照射することによって、基材上にガラス様の透明被膜を形成する方法。
請求項（抜粋）：
a)次式(I) -(SiR'R''-NR''')n- (1) [式中、R'、R''、R'''は、同一かまたは異なり、互いに独立して、水素、あるいは場合によっては置換されたアルキル基、アリール基、ビニル基または(トリアルコキシシリル)アルキル基を表し、この際、nは整数であり、そしてnは、該ポリシラザンが150〜150,000g/モルの数平均分子量を有するように定められる] で表されるポリシラザン、及び b)有機溶剤中の触媒、 を含む溶液で基材を被覆し、次いで溶剤を蒸発させて除去し、それによって0.05〜3.0μmの層厚のポリシラザン層を基材上に残し、そして水蒸気を含む雰囲気中において、酸素、活性酸素、場合によっては及び窒素の存在下において、上記のポリシラザン層を、<230nmの波長成分を含むVUV放射線及び230〜300nmの波長成分を含むUV放射線で照射することによって、基材上にガラス様の透明被膜を形成する方法。
IPC (4件)：
C08J 7/04 ,  B05D 5/00 ,  B05D 7/24 ,  B05D 7/00
FI (5件)：
C08J7/04 P ,  C08J7/04 ,  B05D5/00 Z ,  B05D7/24 302Y ,  B05D7/00 E
Fターム (20件)：
4D075BB24Z ,  4D075BB43Z ,  4D075BB46Z ,  4D075BB56Z ,  4D075DA06 ,  4D075DB13 ,  4D075DB48 ,  4D075DB53 ,  4D075EA21 ,  4D075EB42 ,  4D075EB52 ,  4D075EC30 ,  4D075EC37 ,  4F006AA12 ,  4F006AA35 ,  4F006AA39 ,  4F006AB32 ,  4F006AB65 ,  4F006BA05 ,  4F006CA07
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (4件)
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