特許
J-GLOBAL ID：200903025982525339
SiO2系セラミックス膜の形成方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
石田 敬 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-080587
公開番号（公開出願番号）：特開平10-279362
出願日： 1997年03月31日
公開日（公表日）： 1998年10月20日
要約：
【要約】【課題】 ポリシラザン由来のセラミックス膜の製造工程を改良すること。【解決手段】 ポリシラザンを含む塗膜を基材表面に形成し、前記塗膜をセラミックス化処理して実質的にSiO2 からなるセラミックス膜を形成する方法において、前記セラミックス化に要する温度を低下せしめる工程及び前記塗膜に紫外線を照射する工程を含むことを特徴とする方法。
請求項（抜粋）：
ポリシラザンを含む塗膜を基材表面に形成し、前記塗膜をセラミックス化処理して実質的にSiO2 からなるセラミックス膜を形成する方法において、前記セラミックス化に要する温度を低下せしめる工程及び前記塗膜に紫外線を照射する工程を含むことを特徴とする方法。
IPC (4件)：
C04B 35/589
, B05D 7/24 302
, C08J 7/04
, C09D183/16
C04B 35/58 102 N
, B05D 7/24 302 Y
, C08J 7/04 M
, C08J 7/04 Q
, C09D183/16
