特許
J-GLOBAL ID：200903054075665499
コーティング組成物及びシリカ系セラミックス膜の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
石田 敬 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-334106
公開番号（公開出願番号）：特開平11-166157
出願日： 1997年12月04日
公開日（公表日）： 1999年06月22日
要約：
【要約】【課題】 低温でセラミックス化するポリシラザン組成物の保存安定性を改良すること。【解決手段】 ポリシラザンと、紫外線照射によりアミン類を放出する化合物とを含むコーティング組成物。該コーティング組成物の塗膜を基材表面に形成し、その塗膜に紫外線を照射することを特徴とする、シリカ系セラミックス膜の製造方法。
請求項（抜粋）：
ポリシラザンと、紫外線照射によりアミン類を放出する化合物とを含むコーティング組成物。
IPC (2件)：
FI (2件)：
C09D183/16
, C01B 33/12 C
