特許
J-GLOBAL ID：200903084347324021

感放射線性樹脂組成物

発明者：
塩谷 健夫

塩谷 健夫 について

, 
榊原 宏和

榊原 宏和 について

, 
阿部 慈

阿部 慈 について


出願人/特許権者：
JSR株式会社

JSR株式会社 について


代理人 (3件)： 渡邉 一平 ,  木川 幸治 ,  樋口 武
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-236524
公開番号（公開出願番号）：特開2007-052182
出願日： 2005年08月17日
公開日（公表日）： 2007年03月01日
要約：
【課題】感度、解像度に優れ、パターンのラインエッジラフネスが小さく、更にはパターン形状を良好に維持することが可能なレジストである感放射線性樹脂組成物を提供する。【解決手段】(A)アルキル置換ノルボルナンラクトン環を含有する酸解離性基含有共重合体と、(B)スルホン酸エステル型の酸増殖剤と、(C)酸発生剤とを含有する感放射線性樹脂組成物。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
(A)下記一般式(1-1)で示される繰り返し単位および下記一般式(1-2)で示される繰り返し単位を有する酸解離性基含有重合体と、(B)下記一般式(1-3)で示される化合物と、(C)放射線の照射により酸を発生する酸発生剤とを含有する感放射線性樹脂組成物。
IPC (4件)：
G03F 7/039 ,  G03F 7/004 ,  H01L 21/027 ,  C08F 220/36
FI (4件)：
G03F7/039 601 ,  G03F7/004 503A ,  H01L21/30 502R ,  C08F220/36
Fターム (24件)：
2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB14 ,  2H025CB41 ,  2H025FA17 ,  4J100AL16P ,  4J100AL16Q ,  4J100BC01P ,  4J100BC08P ,  4J100BC09P ,  4J100BC53Q ,  4J100BD12 ,  4J100CA04 ,  4J100CA05 ,  4J100JA37 ,  4J100JA38
引用特許：
出願人引用 (3件)

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