特許
J-GLOBAL ID：200903089965407312

光活性化合物および感光性樹脂組成物

発明者：
花畑 誠

花畑 誠 について

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佐藤 正洋

佐藤 正洋 について

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片山 淳子

片山 淳子 について

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北島 さつき

北島 さつき について

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丹羽 淳

丹羽 淳 について


出願人/特許権者：
株式会社関西新技術研究所

株式会社関西新技術研究所 について


代理人 (1件)： 鍬田 充生
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-094756
公開番号（公開出願番号）：特開2002-363123
出願日： 2002年03月29日
公開日（公表日）： 2002年12月18日
要約：
【要約】【課題】 レジスト用途において、短波長の光源に対しても高感度であり、高解像度でパターンを形成するのに有用な光活性化合物を得る。【解決手段】 光活性化合物は、下記式(1)で表され、感光剤と組み合わせて使用される。A-[(J)m-(X-Pro)]n (1)(式中、Aは、炭化水素基及び複素環基から選択された少なくとも一種の疎水性基で構成された疎水性ユニットを示し、Jは連結基を示し、X-Proは光照射に起因して脱離可能な保護基Proで保護された親水性基を示す。mは0又は1、nは1以上の整数である)前記保護基Proは、光照射により、感光剤(特に酸発生剤)と関連して脱離可能であってもよく、疎水性保護基であってもよい。親水性基は、ヒドロキシル基、カルボキシル基などであってもよい。
請求項（抜粋）：
感光剤と組み合わせて用いられる光活性化合物であって、下記式(1)で表される光活性化合物。A-[(J)m-(X-Pro)]n (1)(式中、Aは、炭化水素基及び複素環基から選択された少なくとも一種の疎水性基で構成された疎水性ユニットを示し、Jは連結基を示し、X-Proは光照射に起因して脱離可能な保護基Proで保護された親水性基を示す。mは0又は1、nは1以上の整数である)
IPC (11件)：
C07C 43/303 ,  C07C 69/734 ,  C07C 69/736 ,  C07C 69/76 ,  C07C 69/773 ,  C07C 69/92 ,  C07C 69/96 ,  C07C317/22 ,  C07F 7/08 ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/027
FI (12件)：
C07C 43/303 ,  C07C 69/734 Z ,  C07C 69/736 ,  C07C 69/76 Z ,  C07C 69/773 ,  C07C 69/92 ,  C07C 69/96 Z ,  C07C317/22 ,  C07F 7/08 C ,  C07F 7/08 K ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/30 502 R
Fターム (30件)：
2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AA09 ,  2H025AB16 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB41 ,  2H025CB43 ,  2H025CB45 ,  2H025CC20 ,  2H025FA12 ,  4H006AA01 ,  4H006AA03 ,  4H006AB76 ,  4H006BJ50 ,  4H006BM10 ,  4H006BM71 ,  4H006BN30 ,  4H006BP10 ,  4H006BP30 ,  4H049VN01 ,  4H049VP01 ,  4H049VQ03 ,  4H049VQ04 ,  4H049VQ28 ,  4H049VR24 ,  4H049VU29
引用特許：
審査官引用 (15件)
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