特許
J-GLOBAL ID:200903084426759220
反射体およびこれを用いた光半導体装置並びにそれらの製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
青山 葆 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平9-288412
公開番号(公開出願番号):特開平11-121863
出願日: 1997年10月21日
公開日(公表日): 1999年04月30日
要約:
【要約】【課題】 反射体を用いた光ディスクへの書き込み、読み取り等の光情報処理に用いる光半導体装置に関し、反射面の平坦性に優れたSi単結晶基板からなる反射体および該反射体を用いた光半導体装置を提供する。【解決手段】 研磨された平滑なSi単結晶基板表面を反射面とし、かかる基板表面に対して45°の角度を有して形成されたエッチング面を底面とする反射体を用いる。
請求項(抜粋):
研磨された平滑なSi単結晶基板表面を反射面とし、該反射面に対して45°の角度を有してエッチング形成された{111}面を底面とする、Si単結晶からなる反射体。
引用特許:
審査官引用 (8件)
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マイクロミラーの製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平8-249298
出願人:日本ビクター株式会社
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特開昭61-158970
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特開平4-196189
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