特許
J-GLOBAL ID：200903084738794570
パルス光照射方法およびパルス光照射装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
横井 幸喜
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-249757
公開番号（公開出願番号）：特開平11-074216
出願日： 1997年08月29日
公開日（公表日）： 1999年03月16日
要約：
【要約】【課題】 パルスレーザ光を用いたレーザアニール処理において、希に発生する過剰エネルギによって処理品に不良が発生するのを防止する。【解決手段】 パルス光出力部15で発生したたパルス光20を分割光学系Ms1によって光路長が異なる光路(a)(b)に分割し、その後分割されたパルス光20a、20bを合成光学系Ms2によって合成して被処理体7に照射する。【効果】 パルス光の過剰エネルギ分を抑制して不良品の生成を抑制することができる。また、パルス幅を調整することも可能になる。
請求項（抜粋）：
パルス光を光路長が異なる光路に分割するとともに、その後、分割されたパルス光を合成してパルス光の1パルス中におけるエネルギ強度分布及び時間的パルス幅を任意に変えるように波形整形することを特徴とするパルス光照射方法
IPC (2件)：
FI (3件)：
H01L 21/268 F
, H01L 21/268 J
, H01L 21/20
