ディスク原盤の製造装置

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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：藤村元彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-226299
公開番号（公開出願番号）：特開2003-036572
出願日： 2001年07月26日
公開日（公表日）： 2003年02月07日
要約：

【要約】【目的】高密度かつ高精度なディスク原盤の製造が可能なディスク原盤製造装置を提供する。【解決手段】電子銃と、電子銃に加速電圧を印加して電子ビームを射出せしめる加速電圧印加部と、基板を実質的に一定の角速度で回転せしめる回転駆動部と、電子ビームの照射位置を前記基板の回転半径方向に相対的に移動せしめる移動駆動部と、電子ビームの電子線を減速せしめる大きさの減速電圧を前記基板に印加する電子ビーム減速部と、加速電圧を実質的に一定に保ちつつ前記基板の回転半径方向における前記電子ビームの照射位置に応じて前記電子ビームの減速電圧を変化せしめる制御部と、を有する。

請求項（抜粋）：

主面にレジストが形成された基板に電子ビームを照射してディスク原盤を製造する装置であって、電子銃と、前記電子銃に加速電圧を印加して電子ビームを射出せしめる加速電圧印加部と、前記基板を実質的に一定の角速度で回転せしめる回転駆動部と、前記電子ビームの照射位置を前記基板の回転半径方向に相対的に移動せしめる移動駆動部と、前記電子ビームの電子線を減速せしめる大きさの減速電圧を前記基板に印加する電子ビーム減速部と、前記加速電圧を実質的に一定に保ちつつ前記基板の回転半径方向における前記電子ビームの照射位置に応じて前記電子ビームの減速電圧を変化せしめる制御部と、を有することを特徴とする装置。

IPC (3件)：

G11B 7/26 501 , G03F 7/20 501 , G03F 7/20 504

FI (3件)：

G11B 7/26 501 , G03F 7/20 501 , G03F 7/20 504

Fターム (10件)：

2H097AA03 , 2H097AB06 , 2H097BA02 , 2H097BB01 , 2H097CA16 , 5D121BB01 , 5D121BB21 , 5D121BB26 , 5D121BB38 , 5D121BB40

引用特許：

審査官引用 (3件)

電子ビーム照射方法及び装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-182310 出願人：富士通株式会社
レジスト材料
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-287562 出願人：株式会社ニコン
パターン形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-016619 出願人：株式会社東芝

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