電子ビーム照射方法及び装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：平戸哲夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-182310
公開番号（公開出願番号）：特開2000-011464
出願日： 1998年06月29日
公開日（公表日）： 2000年01月14日
要約：

【要約】【課題】光ディスク原盤を作製する場合に使用する電子ビーム照射装置に関し、光ディスク原盤作製用パターンに形状的に同精度かつ位置的に高精度のピットを形成できるようにし、高品質の光ディスク原盤を得ることができるようにする。【解決手段】各ピットパターン描画部分の単位面積当たりのドーズ量が光ディスク原盤作製用ディスク10の半径方向の位置によらず、かつ、近接するピットパターン描画部分の疎密によらず、かつ、各ピットパターン描画部分の長さによらず、一定となるような電子ビーム照射を行うと共に、光ディスク原盤作製用ディスク10の回転中心の偏芯を補正することができるようにする。

請求項（抜粋）：

光ディスク原盤作製用ディスクを全ピット形成領域で角速度一定となるように又は同心円状に区分されたピット形成領域ごとに角速度一定となるように回転させながら前記光ディスク原盤作製用ディスクにピット形成のための電子ビームを照射する電子ビーム照射方法であって、各ピット形成部分の単位面積当たりのドーズ量が前記光ディスク原盤作製用ディスクの半径方向の位置によらず一定となるように電子ビームを照射することを特徴とする電子ビーム照射方法。

IPC (3件)：

G11B 7/26 501 , G11B 7/085 , G11B 7/00

FI (3件)：

G11B 7/26 501 , G11B 7/085 E , G11B 7/00 K

Fターム (16件)：

5D090AA01 , 5D090BB01 , 5D090CC01 , 5D090DD03 , 5D090DD05 , 5D090EE02 , 5D090FF17 , 5D090GG01 , 5D090KK03 , 5D117AA02 , 5D117BB04 , 5D117CC04 , 5D117FF28 , 5D121BB01 , 5D121BB26 , 5D121BB38

引用特許：

審査官引用 (14件)

特開平2-098848
半導体装置製造用原版レチクルの製造方法及びその装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-146217 出願人：ソニー株式会社
光ディスク原盤製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-036100 出願人：株式会社リコー

全件表示

前のページに戻る