特許
J-GLOBAL ID:200903084928668759

ケイ酸塩蛍光体の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 深井 敏和
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-275144
公開番号(公開出願番号):特開2006-089561
出願日: 2004年09月22日
公開日(公表日): 2006年04月06日
要約:
【課題】乾燥工程においてスラリーを希釈する必要がなく、しかも乾燥工程で得られた乾燥品を焼成工程の前に解砕する必要がなく、生産性に優れたケイ酸塩蛍光体の製造方法を提供することである。【解決手段】酸化ケイ素を含む複数種の金属化合物を湿式粉砕混合しスラリーを調製する工程と、このスラリーを乾燥する工程と、この乾燥品を焼成する工程とを有し、前記乾燥工程において、200〜350°Cの熱風を吹き込んで多数の媒体粒子を流動させる流動室内に前記スラリーを供給し、スラリー中の固形分を最大粒径が3mm以下の乾燥粒子として連続的に回収する。【選択図】なし
請求項(抜粋):
酸化ケイ素を含む複数種の金属化合物を湿式粉砕混合しスラリーを調製する工程と、このスラリーを乾燥する工程と、この乾燥品を焼成する工程とを有するケイ酸塩蛍光体の製造方法であって、 前記乾燥工程において、200〜350°Cの熱風を吹き込んで多数の媒体粒子を流動させる流動室内に前記スラリーを供給し、スラリー中の固形分を最大粒径が3mm以下の乾燥粒子として連続的に回収することを特徴とするケイ酸塩蛍光体の製造方法。
IPC (2件):
C09K 11/08 ,  C09K 11/59
FI (2件):
C09K11/08 B ,  C09K11/59
Fターム (9件):
4H001CA07 ,  4H001CF02 ,  4H001XA08 ,  4H001XA12 ,  4H001XA14 ,  4H001XA20 ,  4H001XA38 ,  4H001XA56 ,  4H001YA63
引用特許:
出願人引用 (2件) 審査官引用 (2件)

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