特許
J-GLOBAL ID:200903039235821833

ケイ酸塩蛍光体の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 久保山 隆 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-385832
公開番号(公開出願番号):特開2003-183644
出願日: 2001年12月19日
公開日(公表日): 2003年07月03日
要約:
【要約】【課題】輝度が高いケイ酸塩蛍光体の製造方法を提供する。【解決手段】金属化合物の混合物を焼成することによるケイ酸塩蛍光体の製造方法において、BET比表面積が10m2/g以上である酸化ケイ素を金属化合物の一つとして用いるケイ酸塩蛍光体の製造方法。金属化合物が、Ca、Sr、Ba、Mg、Eu、MnおよびZnからなる群から選ばれる一種以上の金属の化合物とSiの化合物である上記記載の製造方法。ケイ酸塩蛍光体が、一般式mM1O・nM2O・2SiO2(式中のM1はCa、SrおよびBaからなる群より選ばれる1種以上、M2はMgおよびZnからなる群より選ばれる1種以上、mは0.5以上3.5以下、nは0.5以上2.5以下である。)により表される化合物に、付活剤としてEu、Mnからなる群より選ばれる1種以上が含有されてなるケイ酸塩蛍光体である上記いずれかに記載の製造方法。
請求項(抜粋):
金属化合物の混合物を焼成することによるケイ酸塩蛍光体の製造方法において、BET比表面積が10m2/g以上である酸化ケイ素を金属化合物の一つとして用いることを特徴とするケイ酸塩蛍光体の製造方法。
IPC (2件):
C09K 11/08 ,  C09K 11/59 CPR
FI (2件):
C09K 11/08 B ,  C09K 11/59 CPR
Fターム (13件):
4H001CA02 ,  4H001CA04 ,  4H001CA06 ,  4H001CF02 ,  4H001XA08 ,  4H001XA12 ,  4H001XA14 ,  4H001XA20 ,  4H001XA30 ,  4H001XA38 ,  4H001XA56 ,  4H001YA25 ,  4H001YA63
引用特許:
審査官引用 (14件)
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