特許
J-GLOBAL ID：200903084934966176

成膜装置

発明者：
奥田 伸之

奥田 伸之 について


出願人/特許権者：
住友電気工業株式会社

住友電気工業株式会社 について

, 
財団法人地球環境産業技術研究機構

財団法人地球環境産業技術研究機構 について


代理人 (2件)： 川嶋 正章 ,  渡辺 征一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-190100
公開番号（公開出願番号）：特開2008-019459
出願日： 2006年07月11日
公開日（公表日）： 2008年01月31日
要約：
【課題】複合材料からなる膜を成膜する成膜装置において、気体粒子生成温度が異なる複数の気体粒子生成部の温度制御性を改善する。【解決手段】成膜装置10は、真空チャンバー11内に、第1気体粒子生成部20と、第2気体粒子生成部21と、第1,第2気体粒子生成部20,21の間にそれぞれ配置された2つの仕切り部材25と、被加工基板Dが保持されている成膜部30とを配置して構成されている。仕切り部材25は冷媒によって冷却され、高温側の第2気体粒子生成部21からの輻射熱による第1気体粒子生成部20の温度上昇を抑制している。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
生成温度が相異なる複数材料の気体粒子を生成するための複数の気体粒子生成部と、 前記複数の気体粒子生成部で生成された複数材料の気体粒子から基材状に膜を成膜する成膜部と、 前記複数の気体粒子生成部の間に設けられ、冷却されている仕切り部材と、 を備えている、成膜装置。
IPC (2件)：
C23C 14/24 ,  H01M 10/38
FI (2件)：
C23C14/24 C ,  H01M10/38
Fターム (13件)：
4K029BA51 ,  4K029BA64 ,  4K029BC03 ,  4K029CA01 ,  4K029DB05 ,  4K029DB14 ,  4K029DB18 ,  5H029AJ14 ,  5H029AM12 ,  5H029CJ02 ,  5H029CJ24 ,  5H029CJ28 ,  5H029CJ30
引用特許：
出願人引用 (1件)
  • 成膜装置及び成膜方法
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-088253   出願人：芝浦メカトロニクス株式会社
審査官引用 (4件)
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