特許
J-GLOBAL ID：200903085006198563

有機EL素子形成用マスク,有機EL素子の形成方法並びに有機EL素子形成装置

発明者：
平賀 靖英

平賀 靖英 について


出願人/特許権者：
トッキ株式会社

トッキ株式会社 について


代理人 (2件)： 吉井 剛 ,  吉井 雅栄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-140703
公開番号（公開出願番号）：特開2007-311257
出願日： 2006年05月19日
公開日（公表日）： 2007年11月29日
要約：
【課題】複数のマスクを用いて大型基板の表面を覆う際にフレームレス構造を実現可能とする極めて実用性に秀れた有機EL素子形成用のマスク等を提供する。【解決手段】表面にメッキ法により金属層3が設けられた有機EL素子形成用マスクであって、金属層3を設けたマスク表面の一部にこの金属層3を有しない画定された領域4と、この領域4内に金属層3で形成するマスク側アライメントマーク5とを設けて、このマスク側アライメントマーク5と、前記基板1に設けた基板側アライメントマーク6とを用いてアライメント調整を行えるように構成したもの。【選択図】図3
請求項（抜粋）：
有機EL素子が形成される基板に重合せしめられる有機EL素子形成用のマスクにおいて、マスク本体と、このマスク本体に形成されるマスクパターン部の外周縁部に接着により一体化せしめられる補強用枠体とから成り、表面にメッキ法により金属層が設けられた有機EL素子形成用マスクであって、この金属層を設けたマスク表面の一部にこの金属層を有しない画定された領域と、この領域内に金属層で形成するマスク側アライメントマークとを設けて、このマスク側アライメントマークと、前記基板に設けた基板側アライメントマークとを用いてアライメント調整を行えるように構成したことを特徴とする有機EL素子形成用マスク。
IPC (3件)：
H05B 33/10 ,  H01L 51/50 ,  C23C 14/04
FI (3件)：
H05B33/10 ,  H05B33/14 A ,  C23C14/04 A
Fターム (11件)：
3K107AA01 ,  3K107CC42 ,  3K107CC45 ,  3K107GG32 ,  3K107GG33 ,  3K107GG52 ,  4K029BA62 ,  4K029CA01 ,  4K029HA03 ,  4K029HA04 ,  4K029KA09
引用特許：
出願人引用 (2件) 審査官引用 (4件)
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