特許
J-GLOBAL ID：200903023863444891
アライメント装置及び方法、並びにこれを用いて製造される有機EL素子
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
木下 茂
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-094526
公開番号（公開出願番号）：特開2004-303559
出願日： 2003年03月31日
公開日（公表日）： 2004年10月28日
要約：
【課題】成膜用マスクに張力が加えられて、アライメントマークの位置がずれても位置合わせを正確に行なえるアライメント装置、およびそれを用いて製造される有機EL素子を提供する。【解決手段】ガラス基板1の仮想対角線上の両端付近に、基板用マーク1aを対向して形成し、基板用マーク1aと結ぶ仮想線同士が平行となる位置に平行基準マーク1bを形成する基板マーク形成手段4と、マスク2の仮想対角線上の両端付近に、マスク用マーク2aを対向して形成するマスクマーク形成手段5と、マークが対向して配置された位置において、測定用画像を取得する画像取得手段と、測定用画像から、マスク2の中心点座標値を算出する座標値算出手段21と、マスク2の中心点座標値とガラス基板1の中心点座標値との座標差分値を算出する補正値算出手段22と、座標差分値を補正値として用い、ガラス基板1または/およびマスク2の位置補正を行なう。【選択図】 図2
請求項（抜粋）：
透明の基板と成膜用マスクとを重ねたときの位置合わせを行なうアライメント装置において、
前記基板面に形成される一つの仮想対角線上の両端付近に、第1のマークを対向して形成し、該第1のマークと結ぶ仮想線同士が平行となる位置に第2のマークを形成する基板マーク形成手段と、
前記成膜用マスク面に形成される一つの仮想対角線上の両端付近に、第3のマークを対向して形成するマスクマーク形成手段と、
前記第1乃至第3のマークが対向して配置された夫々の位置において、前記第1のマークと前記第2のマークと前記第3のマークとを測定用画像として取得する画像取得手段と、
前記測定用画像から前記第1のマークと前記第3のマークとの距離を算出し、前記基板面に形成される2次元座標において、前記成膜用マスクの中心点座標値を算出する座標値算出手段と、
前記成膜用マスクの中心点座標値と前記基板の中心点座標値との座標差分値を算出する補正値算出手段と、
前記座標差分値を補正値として用い、前記基板または/および前記成膜用マスクの位置補正を行なう位置補正手段と
を少なくとも備えることを特徴とするアライメント装置。
IPC (3件)：
H05B33/10
, C23C14/04
, H05B33/14
H05B33/10
, C23C14/04 A
, H05B33/14 A
3K007AB18
, 3K007DB03
, 3K007FA01
, 4K029AA09
, 4K029AA24
, 4K029BC07
, 4K029BD00
, 4K029CA01
, 4K029DB14
, 4K029HA03
