新規の重合体及びこれを含有した化学増幅型レジスト

発明者： , , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：正林真之 , 藤田和子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-281651
公開番号（公開出願番号）：特開2005-194498
出願日： 2004年09月28日
公開日（公表日）： 2005年07月21日
要約：

【課題】放射線を用いて微細加工に有用なレジストを作ることができる新規の重合体及びこれを含有するレジスト組成物を提供する。【解決手段】以下の化学式1で表示される重合体を用いた。〔前記化学式1において、Xは炭素数3から30のビニルエーテル誘導体、スチレン誘導体、無水マレイン酸誘導体または電子吸引性の官能基を二重結合の位置に有しないオレフィン誘導体からなる群から選択される1種以上の誘導体であり、R1とR3はそれぞれ独立したもので、水素原子、炭素数1から30のアルキル基、炭素数1から30のアルコキシ基、ハロゲンに置換されたアルキル基、及びハロゲンに置換されたアルコキシアルキル基からなる群から選択される1種以上の基であり、R2は水素原子、メチル基及びトリフルオロメチル基からなる群から選択される1種以上の基である。〕【化1】

請求項（抜粋）：

以下の化学式(1)で表示される重合体。

IPC (8件)：

C08F212/08 , C08F216/12 , C08F220/10 , C08F222/06 , C08F232/00 , G03F7/033 , G03F7/039 , H01L21/027

FI (8件)：

C08F212/08 , C08F216/12 , C08F220/10 , C08F222/06 , C08F232/00 , G03F7/033 , G03F7/039 601 , H01L21/30 502R

Fターム (31件)：

2H025AA01 , 2H025AA02 , 2H025AA03 , 2H025AB16 , 2H025AC04 , 2H025AC08 , 2H025AD03 , 2H025BE07 , 2H025BE10 , 2H025BG00 , 2H025CB08 , 2H025CB10 , 2H025CB13 , 2H025CB14 , 2H025CB41 , 2H025CB45 , 4J100AB02P , 4J100AE09P , 4J100AJ02R , 4J100AL03Q , 4J100AL08Q , 4J100AR11P , 4J100BA04Q , 4J100BA20P , 4J100BB18Q , 4J100BC04P , 4J100BC04Q , 4J100BC07Q , 4J100CA04 , 4J100CA05 , 4J100JA38

引用特許：

審査官引用 (5件)

化学増幅型レジスト用重合体及びこれを含有した化学増幅型レジスト組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願2002-054881 出願人：コリアクンホペトロケミカルカンパニーリミテッド
新規な感酸性重合体及びこれを含有するレジスト組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-376255 出願人：コリアクンホペトロケミカルカンパニーリミテッド
高分子化合物、レジスト材料及びパターン形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-033262 出願人：信越化学工業株式会社, 松下電器産業株式会社, セントラル硝子株式会社

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