特許
J-GLOBAL ID：200903085052253390
基板処理装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
稲岡 耕作
, 川崎 実夫
, 皆川 祐一
, 五郎丸 正巳
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-143106
公開番号（公開出願番号）：特開2009-290102
出願日： 2008年05月30日
公開日（公表日）： 2009年12月10日
要約：
【課題】基板収容器内の雰囲気の酸素濃度または湿度を十分に低下させておくことができる基板処理装置を提供すること。【解決手段】隔壁7における通過口8の上方には、インデクサ空間ISのダウンフローが、基板収容器C内に進入することを抑制するための上カバー20が設けられている。通過口8の両側方には、インデクサ空間ISのダウンフローが、基板収容器C内に進入することを抑制するための横カバー21,22が設けられている。通過口8の周縁部には、開放状態における通過口8の上方領域23に向けてN2ガスを吹き付けるための上ノズル30と、通過口8の側方領域25,27に向けてN2ガスを吹き付けるための第1および第2横ノズル32,34とが備えられている。【選択図】図4
請求項（抜粋）：
基板を出し入れするための開口を有する基板収容器を保持するための収容器保持部と、
前記収容器保持部に保持された前記基板収容器の前記開口と対向する通過口を有し、前記収容器保持部が配置された保持空間とダウンフローが形成されるダウンフロー空間とを仕切る隔壁と、
前記通過口の上方において前記隔壁から前記ダウンフロー空間側に向かって突出して設けられて、ダウンフローの前記基板収容器内への進入を抑制するための上カバーと、
前記通過口の上縁部に沿う領域を通して、前記基板収容器内に向けてパージガスを吹き付けるための上パージガス吹き付け手段と、
前記通過口の側方において前記隔壁から前記ダウンフロー空間側に向かって突出して設けられて、ダウンフローの前記基板収容器内への進入を抑制するための横カバーと、
前記通過口の側縁部に沿う領域を通して、前記基板収容器内に向けてパージガスを吹き付けるための横パージガス吹き付け手段とを含む、基板処理装置。
IPC (2件)：
H01L 21/677
, H01L 21/304
H01L21/68 A
, H01L21/304 648
5F031CA02
, 5F031DA08
, 5F031FA01
, 5F031FA11
, 5F031GA02
, 5F157AB02
, 5F157AB33
, 5F157CF16
, 5F157CF98
, 5F157DB55
