特許
J-GLOBAL ID:200903085114057640
プラズマ発生装置およびそれを用いるワーク処理装置
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (4件):
小谷 悦司
, 伊藤 孝夫
, 樋口 次郎
, 平田 晴洋
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2006-243618
公開番号(公開出願番号):特開2008-066159
出願日: 2006年09月08日
公開日(公表日): 2008年03月21日
要約:
【課題】基板の改質等、ワークの処理などに使用されるプラズマ発生装置において、導波管にプラズマ発生ノズルが複数個取付けられ、複数の被処理ワークや大面積の被処理ワークに対応するにあたって、導波管内でのプラズマ点灯による不具合の発生を抑える。【解決手段】導波管10を与圧する通風ファン80を設けるとともに、導波管10内のプラズマ発光を検知する光センサ981を設け、前記与圧によってプラズマ発生ノズル31側よりも導波管10内でのプラズマ点灯を生じ難くするとともに、点灯が生じても、制御手段がマイクロ波発生装置を停止させ、また処理ガス供給を停止させる。これによって、導波管内でのプラズマ点灯を防止し、プラズマ発生ノズル31における受信アンテナの損耗などの前記導波管10内でのプラズマ点灯による不具合の発生を抑えることができる。【選択図】図1
請求項(抜粋):
マイクロ波を発生するマイクロ波発生手段と、前記マイクロ波を伝搬する導波管と、前記導波管に取付けられ、前記マイクロ波を受信してそのエネルギーに基づきプラズマ化したガスを生成して放出するプラズマ発生ノズルとを備えて構成されるプラズマ発生装置において、
前記導波管内を与圧する与圧手段を含むことを特徴とするプラズマ発生装置。
IPC (6件):
H05H 1/24
, H05H 1/00
, H01L 21/306
, H01L 21/205
, H01L 21/304
, B08B 7/00
FI (6件):
H05H1/24
, H05H1/00 A
, H01L21/302 101E
, H01L21/205
, H01L21/304 645C
, B08B7/00
Fターム (30件):
3B116AA02
, 3B116AA03
, 3B116AB14
, 3B116BB22
, 3B116BB32
, 3B116BC01
, 3B116CD42
, 3B116CD43
, 4K030GA12
, 4K030KA30
, 4K030KA39
, 4K030KA41
, 5F004AA16
, 5F004BA20
, 5F004BB14
, 5F004BB24
, 5F004BB28
, 5F004BC03
, 5F004CA07
, 5F004CB09
, 5F004DA00
, 5F004DA22
, 5F004DA23
, 5F004DA25
, 5F045AA08
, 5F045AE29
, 5F045DP27
, 5F045EF02
, 5F045EF08
, 5F045EH03
引用特許:
出願人引用 (1件)
-
プラズマ処理装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2002-254622
出願人:積水化学工業株式会社
審査官引用 (8件)
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