プラズマCVD装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：中島司朗
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-358855
公開番号（公開出願番号）：特開平11-191555
出願日： 1997年12月26日
公開日（公表日）： 1999年07月13日
要約：

【要約】【課題】極めて容易に作製できる耐久性に優れた異常放電の発生がないプラズマCVD装置を提供する。【解決手段】内壁面にポリイミド又はポリベンゾイミダゾールの被膜10aを所定の厚みに形成したアルミニウム製の反応容器を備えたCVD装置である。

請求項（抜粋）：

プラズマCVD装置において、非絶縁性部材で形成された反応容器の内壁面の角部に熱硬化性ポリイミド又は熱硬化性ポリベンゾイミダゾールの絶縁性の膜が形成されていることを特徴とするプラズマCVD装置。

IPC (5件)：

H01L 21/31 , C23C 16/44 , C23C 16/50 , H01L 21/205 , H01L 21/3065

FI (5件)：

H01L 21/31 C , C23C 16/44 B , C23C 16/50 , H01L 21/205 , H01L 21/302 B

引用特許：

審査官引用 (4件)

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