特許
J-GLOBAL ID：200903085250438428

マルチビーム走査光学系及びそれを用いた画像形成装置

発明者：
吉田 博樹

吉田 博樹 について

, 
石原 圭一郎

石原 圭一郎 について

, 
石部 芳浩

石部 芳浩 について


出願人/特許権者：
キヤノン株式会社

キヤノン株式会社 について


代理人 (1件)： 高梨 幸雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-198263
公開番号（公開出願番号）：特開2003-015065
出願日： 2001年06月29日
公開日（公表日）： 2003年01月15日
要約：
【要約】【課題】 同期検出用光学手段のピントズレに起因する各発光部の相対的な書出し位置ズレを軽減することができるマルチビーム走査光学系及びそれを用いた画像形成装置を得ること。【解決手段】 光源手段、入射光学手段、偏向手段、走査光学手段、そしてスリットを含む同期検出用光学手段とを有するマルチビーム走査光学系において、偏向手段とスリットとの間に設けた第1の光束制限素子により、主走査断面内でのピント位置のずれに起因する各光束の書き出し位置の相対的なずれを軽減し、かつ条件式を満足するように各要素を設定すること。
請求項（抜粋）：
光源手段と、該光源手段から射出した複数の光束を偏向手段に導光する入射光学手段と、該偏向手段により偏向された複数の光束を被走査面上に結像させる走査光学手段と、該偏向手段により偏向された複数の光束の一部を光学素子によりスリット面上、もしくはその近傍に集光させた後、同期検出素子に導光し、該同期検出素子からの信号を用いて該被走査面上の走査開始のタイミングを該複数の光束毎に制御する同期検出用光学手段と、を有するマルチビーム走査光学系において、該偏向手段と該スリットとの間に第1の光束制限素子を設け、該スリットから見た該同期検出素子に導光される光束の主走査断面内でのピント位置のずれに起因する、各光束の書き出し位置の相対的なずれを軽減しており、該入射光学手段は第2の光束制限素子を有し、該第2の光束制限素子から該偏向手段における偏向点までの距離をd[mm]、該複数の光束の発光部間の主走査方向の距離の最大値をw[mm]、該入射光学手段の主走査断面内の焦点距離をfn[mm]、該走査光学手段の主走査断面内の焦点距離をfs[mm]としたとき、(d・w)/(fn・fs)<0.003の条件式を満足することを特徴とするマルチビーム走査光学系。
IPC (4件)：
G02B 26/10 ,  B41J 2/44 ,  H04N 1/036 ,  H04N 1/113
FI (5件)：
G02B 26/10 A ,  G02B 26/10 B ,  H04N 1/036 Z ,  B41J 3/00 D ,  H04N 1/04 104 A
Fターム (30件)：
2C362AA07 ,  2C362AA10 ,  2C362BA89 ,  2C362BB31 ,  2C362BB38 ,  2H045BA22 ,  2H045BA23 ,  2H045BA33 ,  2H045CA88 ,  2H045CA89 ,  2H045DA02 ,  5C051AA02 ,  5C051CA07 ,  5C051DA02 ,  5C051DB02 ,  5C051DB22 ,  5C051DB24 ,  5C051DB30 ,  5C051DC04 ,  5C051DE02 ,  5C051FA01 ,  5C072AA03 ,  5C072BA02 ,  5C072HA02 ,  5C072HA06 ,  5C072HA09 ,  5C072HA13 ,  5C072HB11 ,  5C072XA01 ,  5C072XA05
引用特許：
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (5件)
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