特許
J-GLOBAL ID：200903085266003383
パターン検査装置およびパターン検査方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
松阪 正弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-283003
公開番号（公開出願番号）：特開2006-098151
出願日： 2004年09月29日
公開日（公表日）： 2006年04月13日
要約：
【課題】高精度な欠陥候補の種別の判定を容易に行う。【解決手段】パターン検査装置の演算部50は、被検査画像と参照画像とを比較して被検査画像中の欠陥候補領域を示す2値の欠陥候補画像を生成する欠陥候補画像生成部511を有し、被検査画像マスク部521により欠陥候補画像を用いて被検査画像がマスクされる。特徴抽出部531ではマスク後の被検査画像から自己相関特徴量が求められ、判定部54に出力される。判定部54は自己相関特徴量が入力されることにより判定結果を出力する判定器541、および、学習により判定器541を構築する判定器構築部542を有する。これにより、幾何学的特徴量や濃淡を示す特徴量に比べて特徴付けが困難となる自己相関特徴量を利用した高精度な欠陥候補の種別の判定が容易に実現される。【選択図】図3
請求項（抜粋）：
対象物上のパターンを検査するパターン検査装置であって、
対象物上のパターンを示す多階調の被検査画像および多階調の参照画像もしくは前記被検査画像および前記参照画像のそれぞれから導かれる2つの画像の差分を示す画像、または、前記差分を示す画像から導かれる画像を差分画像として生成する手段と、
前記被検査画像と前記参照画像とを比較して、前記被検査画像中の欠陥候補を含む領域を示す欠陥候補画像を生成する手段と、
前記欠陥候補画像を用いて前記差分画像をマスクする差分画像マスク手段と、
マスク後の前記差分画像から自己相関特徴量を求める手段と、
前記自己相関特徴量に基づいて前記欠陥候補の種別の判定を行う手段と、
を備えることを特徴とするパターン検査装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G01N21/956 Z
, G06T1/00 305A
2G051AA51
, 2G051AA65
, 2G051AB07
, 2G051AC21
, 2G051CA04
, 2G051DA05
, 2G051EA08
, 2G051EA11
, 2G051EC01
, 2G051EC06
, 2G051ED01
, 2G051ED11
, 5B057AA03
, 5B057BA02
, 5B057BA29
, 5B057DA03
, 5B057DB02
, 5B057DC30
, 5B057DC34
, 5B057DC36
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (2件)
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