特許
J-GLOBAL ID：200903085363628436
ハーフトーン位相シフトフォトマスク及びハーフトーン位相シフトフォトマスク用ブランクス
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
韮澤 弘 (外7名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-003976
公開番号（公開出願番号）：特開平7-209849
出願日： 1994年01月19日
公開日（公表日）： 1995年08月11日
要約：
【要約】【目的】 半透過部の露光光透過率を任意に調整することができ、かつ、転写波長域から検査波長域までほぼ一定の透過率を有していて高い検査感度が得られる、高品質のハーフトーン位相シフトフォトマスク。【構成】 ハフニウム化合物を主体とする層を少なくとも1層以上含む層をハーフトーン位相シフト層とする。ハフニウム化合物の組成を調整することによって任意の露光光透過率が得られ、かつ、積層構造にすることによって導電性を付与し、また、透過率の微調整を簡易化できる等の従来の材料の持つ長所を有しながら、これに加え、ハーフトーン位相シフト層が転写波長域から検査波長域までほぼ一定の透過率を有するので、検査波長域での透過率が下がり、検査感度が向上し、高品質のハーフトーン位相シフトフォトマスクの作製が可能となる。
請求項（抜粋）：
透明基板上のハーフトーン位相シフト層がハフニウム化合物を主体とする層を少なくとも1層以上含むことを特徴とするハーフトーン位相シフトフォトマスク。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L 21/30 502 P
, H01L 21/30 528
