試料評価・処理観察システム

発明者： , , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：小川勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-154750
公開番号（公開出願番号）：特開平10-064473
出願日： 1997年06月12日
公開日（公表日）： 1998年03月06日
要約：

【要約】【課題】本発明はTEM試料等の加工を適切に、しかも高速に行い、更には複数の試料に対する加工を試料の付け替えなしで行うことを目的とする。【解決手段】そのために本発明によれば、複数の被加工試料を収納する試料ホールダであって、加工・観察用に切り欠いて形成された加工・観察用切り欠き部を有し、複数の被加工用試料をこの切り欠き部に順次移動させて、加工用ビームおよび観察用ビームに露出可能な移動機構を備えた共用試料ステージが提供される。また、試料処理方法では、集束イオンビーム装置で試料にマークを形成し、このマークによる位置決めにより、被加工部の自動加工、さらに、共用試料ステージを用い、高加速TEM,SEMでの加工部の厚さ観察と、集束イオンビーム装置でのビーム加工とを、交互に行って試料処理を行う。

請求項（抜粋）：

複数の被加工試料を収納し、加工・観察用に切り欠いて形成された加工・観察用切り欠き部を有し、当該加工・観察用切り欠き部に前記複数の被加工用試料を順次移動させて所定の加工用ビームおよび観察用ビームに露出可能な移動機構を備えた共用試料ステージと、前記共用試料ステージを装着可能であって、前記複数の被加工用試料に、前記加工・観察用切り欠き部を介して所定の加工用ビームを所定の加工用試料に順次任意のビーム加工を行うビーム加工装置と、前記共用試料ステージを装着可能であって、前記複数の被加工用試料に、前記加工・観察用切り欠き部を介して所定の観察用ビームを照射し、上記複数の被加工用試料の形状を順次評価・観察するビーム観察装置とを備えたことを特徴とする試料評価・処理観察システム。

IPC (5件)：

H01J 37/317 , H01J 37/20 , H01J 37/26 , H01J 37/28 , H01J 37/30

FI (6件)：

H01J 37/317 D , H01J 37/20 A , H01J 37/20 B , H01J 37/26 , H01J 37/28 B , H01J 37/30 Z

引用特許：

審査官引用 (9件)

集束イオンビーム装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-247601 出願人：株式会社日立製作所
特開平4-248237
試料作成方法及びその装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-132241 出願人：株式会社日立製作所

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