特許
J-GLOBAL ID：200903085481670218
誘導結合型HDP-CVDリアクター
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
長谷川 芳樹 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-222932
公開番号（公開出願番号）：特開平10-116826
出願日： 1997年07月15日
公開日（公表日）： 1998年05月06日
要約：
【要約】【課題】 製造のスループットを向上させることができるとともに波長依存性の低減されたブラックマスクを提供する。【解決手段】 本ブラックマスクは、透明基板2上に形成され、可視光を透過させる金属酸化物又は金属酸化物の混合物若しくは混晶からなる第1反射防止膜3と、第1反射防止膜3上に形成され、第1反射防止膜3に使用する金属と異なる金属の酸化物、炭化物、窒化物、酸化窒化物、酸化炭化物、窒化炭化物、及び酸化窒化炭化物の少なくとも1種を含む第2反射防止膜4と、第2反射防止膜4上に形成され、可視光を遮光する遮光膜5とを備える。
請求項（抜粋）：
(a)(i)側壁部と、(ii)前記側壁部の一方の端部に配設されたリッドと、(iii)前記側壁部の反対側の端部に配設された底部と、を有するチャンバ、(b)前記側壁部に片持ち式で取り付けられた基板支持部材、(c)前記側壁部及び前記リッドの1以上の部分を通って配設され、ガスをチャンバ内に入れるようにする1以上のガス入口部、(d)前記側壁部及び前記リッドの1以上の部分を通って配設され、1以上のクリーニングガスをチャンバ内に入れるようにする1以上のガス入口部、及び、前記チャンバの前記底部に配設された排気ポート、を備える基板を処理するための装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L 21/31 C
, H01L 21/205
