特許
J-GLOBAL ID：200903085482476466

基板処理装置

発明者：
藤原 邦夫

藤原 邦夫 について

, 
吉田 順一

吉田 順一 について


出願人/特許権者：
大日本スクリーン製造株式会社

大日本スクリーン製造株式会社 について


代理人 (2件)： 杉谷 勉 ,  戸高 弘幸
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-083917
公開番号（公開出願番号）：特開2009-239061
出願日： 2008年03月27日
公開日（公表日）： 2009年10月15日
要約：
【課題】上下ノズルの流量比を処理に応じて最適なものとすることにより、液中のパーティクル排出性能を向上させることができる基板処理装置を提供する。【解決手段】、制御部47は、上ノズル13と下ノズル11の流量比を調整するので、内槽3内におけるリフタ9の保持部7付近に適度な大きさの渦を発生させることができる。したがって、渦の大きさを調整して、内槽3内を下方から上方へと向かう処理液の流れを適切に形成させることができるので、特に、洗浄処理において液中のパーティクルの排出能力を向上できる。【選択図】図5
請求項（抜粋）：
処理液により基板に対して所定の処理を行う基板処理装置において、 処理液を貯留する処理槽と、 基板を保持する保持部を備え、前記処理槽の上方にあたる待機位置と、前記処理槽の内部にあたる処理位置とにわたって昇降可能なリフタと、 前記処理槽の底部両側に配設され、処理液を供給する下ノズルと、 前記下ノズルの上方に配設され、前記リフタの保持部に向けて処理液を供給する上ノズルと、 前記上ノズルと前記下ノズルとの流量比を処理に応じて調整する制御手段と、 を備えていることを特徴とする基板処理装置。
IPC (2件)：
H01L 21/304 ,  H01L 21/306
FI (4件)：
H01L21/304 642F ,  H01L21/306 J ,  H01L21/304 642A ,  H01L21/304 648G
Fターム (21件)：
5F043EE04 ,  5F157AA73 ,  5F157AB13 ,  5F157AB34 ,  5F157AB42 ,  5F157AC01 ,  5F157BB03 ,  5F157BB13 ,  5F157BB23 ,  5F157BB24 ,  5F157BB52 ,  5F157CE25 ,  5F157CE32 ,  5F157CF14 ,  5F157CF66 ,  5F157CF88 ,  5F157CF93 ,  5F157DB02 ,  5F157DB37 ,  5F157DB51 ,  5F157DC90
引用特許：
出願人引用 (3件) 審査官引用 (3件)

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