特許

J-GLOBAL ID：200903085612698130

有機電界発光素子の製造方法

発明者： 石井 昌彦 ,  大脇 健史
出願人/特許権者： 株式会社豊田中央研究所
代理人 (1件)： 吉田 研二 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-397025
公開番号（公開出願番号）：特開2002-198172
出願日： 2000年12月27日
公開日（公表日）： 2002年07月12日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】 最適なエージング処理を有機EL素子に施す。【解決手段】 有機膜の成膜工程、電極の形成工程及び素子の封止工程に加え、さらにエージング工程を備える。エージング工程は、予め測定した素子の輝度経時変化の測定結果を式(1)で表される輝度低下関数を用いてフィッティングし、そのフィッティングパラメータAi、kiを求め、これを用いて経験式(2)L0(1-a+aAimin) ・・・(2)(a=0.3〜1.2、Aimin=式(1)のkiのうち最小のkiを示す項のAi)からエージング処理によって低下させる目標輝度を求め、該目標輝度まで輝度が低下するよう素子を駆動することで実行する。エージング工程は、用いた有機膜の中で最も低いガラス転移温度以下かつ50°C以上の温度において、素子の初期輝度が1000〜20000cd/m2を達成する定電流または定電圧供給条件で実行する。

請求項（抜粋）：

有機電界発光素子の製造方法において、有機膜の成膜工程と、電極の形成工程と、素子の封止工程と、予め測定した素子の輝度経時変化の測定結果を輝度低下関数でフィッティングして該輝度低下関数におけるフィッティングパラメータを求め、該求めたフィッティングパラメータを用い、経験式からエージング処理によって初期輝度から低下させる目標輝度を求め、該目標輝度まで前記素子の輝度が低下するよう前記素子を駆動するエージング工程と、を有することを特徴とする有機電界発光素子の製造方法。

IPC (2件)：

H05B 33/10 ,  H05B 33/14

FI (2件)：

H05B 33/10 ,  H05B 33/14 A

Fターム (12件)：

3K007AB02 ,  3K007AB11 ,  3K007AB18 ,  3K007BB01 ,  3K007BB04 ,  3K007CA01 ,  3K007CB01 ,  3K007DA01 ,  3K007DB03 ,  3K007EB00 ,  3K007FA03 ,  3K007FA04

引用特許：

出願人引用 (8件)

• 有機ELディスプレイの評価装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-155397   出願人：株式会社豊田中央研究所
• 特開平4-014794
  
• 薄膜EL素子のエージング方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-061474   出願人：日本電装株式会社
• 特開昭61-114493
  
• 特開昭62-217596
  
• 有機電界発光素子の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-000318   出願人：三菱化学株式会社
• 発光素子
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-012294   出願人：東レ株式会社
• 有機EL素子のエージング方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-282253   出願人：株式会社デンソー