特許
J-GLOBAL ID：200903085648079037
反射型マスクブランクス及び反射型マスク並びに反射型マスクの製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
大塚 武史
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-195458
公開番号（公開出願番号）：特開2004-039884
出願日： 2002年07月04日
公開日（公表日）： 2004年02月05日
要約：
【課題】微細なマスクパターンを形状精度よく形成でき、パターン検査において十分なコントラストが得られ、高精度のパターン転写が可能な反射型マスク及び反射型マスクブランクスを提供する。【解決手段】基板11上に順次、露光光を反射する多層反射膜12、バッファ層13及び露光光を吸収する吸収体層を備え、該吸収体層は、最上層15と、それ以外の下層14とからなる積層構造となっており、最上層15は、吸収体層に形成されたパターンの検査に使用する検査波長の光に対する反射率が20%以下であり、かつ下層へのパターン形成の際のエッチング条件に対し耐性を有する無機材料で形成されている。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
基板と、該基板上に順次形成された、露光光を反射する多層反射膜及び露光光を吸収する吸収体層を備えた反射型マスクブランクスであって、
前記吸収体層は、少なくとも最上層と、それ以外の下層とからなる積層構造となっており、前記最上層は、前記吸収体層に形成された吸収体層のパターンの検査に使用する検査波長の光に対する反射率が20%以下であり、かつ下層へのパターン形成の際のエッチング条件に対し耐性を有する無機材料で形成されていることを特徴とする反射型マスクブランクス。
IPC (3件)：
H01L21/027
, G03F1/08
, G03F1/14
H01L21/30 531M
, G03F1/08 Z
, G03F1/14 A
2H095BA10
, 2H095BB14
, 2H095BB28
, 2H095BC09
, 2H095BC11
, 2H095BC13
, 2H095BC17
, 2H095BC24
, 5F046GD10
