特許

J-GLOBAL ID：200903085652966846

基板処理装置

発明者： 芳谷 光明
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (1件)： 間宮 武雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-279200
公開番号（公開出願番号）：特開2003-086654
出願日： 2001年09月14日
公開日（公表日）： 2003年03月20日
要約：

【要約】【課題】 装置構成を複雑にすることなく、処理ユニットを、長手方向が基板の搬送方向と直交する方向に対して平面視で傾斜させるように配置することも含めて自在に配置できる装置を提供する。【解決手段】 基板Wを支持しつつ搬送する搬送ローラ群の、処理ユニット34が配設される処理区域Aの搬送ローラ22の支持ローラ部26の直径寸法を、処理区域以外の搬送ローラ10の支持ローラ部14の直径寸法よりも大きくした。

請求項（抜粋）：

回転軸に複数の支持ローラ部を固着した搬送ローラを複数本、互いに平行に配置し基板の搬送方向に沿って並列させた搬送ローラ群により、基板を支持しつつ搬送しながら、処理手段によって基板の下面を処理する基板処理装置において、前記搬送ローラ群の、前記処理手段が配設される区域の1本もしくは2本以上の搬送ローラの支持ローラ部の直径寸法を、前記区域以外の搬送ローラの支持ローラ部の直径寸法よりも大きくしたことを特徴とする基板処理装置。

IPC (9件)：

H01L 21/68 ,  B08B 1/04 ,  B08B 3/02 ,  B65G 13/071 ,  B65G 49/06 ,  B65G 49/07 ,  H05K 3/06 ,  H05K 3/26 ,  H05K 13/02

FI (9件)：

H01L 21/68 A ,  B08B 1/04 ,  B08B 3/02 C ,  B65G 13/071 A ,  B65G 49/06 Z ,  B65G 49/07 B ,  H05K 3/06 Q ,  H05K 3/26 A ,  H05K 13/02 V

Fターム (31件)：

3B116AA01 ,  3B116AB14 ,  3B116AB47 ,  3B116BA02 ,  3B116BA12 ,  3B116BB22 ,  3B116CC03 ,  3B201AA01 ,  3B201AB14 ,  3B201AB47 ,  3B201BA02 ,  3B201BA12 ,  3B201BB22 ,  3B201BB92 ,  3B201CC12 ,  3F033BA01 ,  3F033BB02 ,  3F033BC02 ,  5E313AA11 ,  5E313DD12 ,  5E313FF11 ,  5E339BE11 ,  5E343EE02 ,  5E343FF09 ,  5E343FF23 ,  5F031CA02 ,  5F031CA05 ,  5F031CA20 ,  5F031GA53 ,  5F031LA13 ,  5F031MA23

引用特許：

出願人引用 (3件)

• 被膜のエッチング・剥離装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-224975   出願人：カシオ計算機株式会社
• 薄板搬送処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-077926   出願人：イビデン株式会社
• 基板搬送装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-093372   出願人：芝浦メカトロニクス株式会社

審査官引用 (3件)

• 被膜のエッチング・剥離装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-224975   出願人：カシオ計算機株式会社
• 薄板搬送処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-077926   出願人：イビデン株式会社
• 基板搬送装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-093372   出願人：芝浦メカトロニクス株式会社