特許
J-GLOBAL ID：200903085678570673

フォトリソグラフィー用スピンオン反射防止膜

発明者：
ボールドウィン,テレサ

ボールドウィン,テレサ について

, 
ケネディー,ジョセフ

ケネディー,ジョセフ について


出願人/特許権者：
ハネウェル・インターナショナル・インコーポレーテッド

ハネウェル・インターナショナル・インコーポレーテッド について


代理人 (6件)： 社本 一夫 ,  増井 忠弐 ,  小林 泰 ,  千葉 昭男 ,  富田 博行 ,  栗田 忠彦
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-546172
公開番号（公開出願番号）：特表2005-512309
出願日： 2001年11月15日
公開日（公表日）： 2005年04月28日
要約：
紫外線フォトリソグラフィー用反射防止膜材料は、スピンオン材料に導入される、少なくとも1つの吸収性化合物と、少なくとも1つのpH調整剤とを含む。適した吸収性化合物は、フォトリソグラフィーに使用され得る365nm、248nm、193nm、および157nmといった波長周辺を吸収する吸収性化合物である。好適なpH調整剤は、最終的なスピンオン組成物のpHを調整するだけでなく、層状材料、電子部品、または半導体部品の一部となる最終的なスピンオン組成物の化学的性能および特徴、機械的性能、ならびに構造的構成に影響を及ぼし、最終的なスピンオン組成物が、組み合わされるレジスト材料とより適合するようにさせる。より具体的には、pH調整剤は、ポリマー特性、構造的な構成、および空間的な方向性に強く影響し、反射防止膜の表面特性を最適なレジスト性能となるように向上させる。つまり、スピンオン材料のpHを単に調整するのみで、スピンオン組成物または組み合わされるレジスト材料の機械的性質および構造的構成に影響を及ぼさないpH調整剤は、本明細書においては、考えられない。吸収性でpH調整されたスピンオン材料の製造方法には、少なくとも1つの有機吸収性化合物と少なくとも1つのpH調整剤とを、スピンオン材料および組成物の合成中に、少なくとも1つのシラン反応物と混合させることが含まれる。
請求項（抜粋）：
少なくとも1つの無機ベースの化合物と、少なくとも1つの導入することが可能な吸収性有機化合物と、少なくとも1つのpH調整剤とを含んでなる、吸収性スピンオンガラス組成物。
IPC (4件)：
H01L21/027 ,  C09D1/00 ,  C09D5/32 ,  C09D7/12
FI (4件)：
H01L21/30 574 ,  C09D1/00 ,  C09D5/32 ,  C09D7/12
Fターム (23件)：
2H025AB16 ,  2H025AC01 ,  2H025AD03 ,  2H025DA34 ,  2H025FA03 ,  2H025FA15 ,  2H025FA39 ,  4J038AA01 ,  4J038DL021 ,  4J038DL031 ,  4J038DM001 ,  4J038JA17 ,  4J038JA32 ,  4J038JA35 ,  4J038JB01 ,  4J038JB16 ,  4J038JB18 ,  4J038JC32 ,  4J038KA06 ,  4J038KA12 ,  4J038NA19 ,  5F046PA02 ,  5F046PA07
引用特許：
審査官引用 (5件)
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