特許
J-GLOBAL ID：200903085831559820

インプリント用モールド構造体、及び該インプリント用モールド構造体を用いたインプリント方法、並びに、磁気記録媒体

発明者：
西川 正一

西川 正一 について

, 
若松 哲史

若松 哲史 について


出願人/特許権者：
富士フイルム株式会社

富士フイルム株式会社 について


代理人 (3件)： 廣田 浩一 ,  流 良広 ,  松田 奈緒子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-238031
公開番号（公開出願番号）：特開2009-070483
出願日： 2007年09月13日
公開日（公表日）： 2009年04月02日
要約：
【課題】インプリントレジスト層に押し当てる際に、前記インプリントレジスト層の組成物の流動を促進して、均一な転写を効率よく行うことができるインプリント用モールド構造体、及び該インプリント用モールド構造体を用いることによって転写精度を向上させたインプリント方法、並びに、記録特性、及び再生特性を向上させた磁気記録媒体の提供。【解決手段】中心を基準としたデータ領域の凹凸部及びサーボ領域の凹凸部の内周端、及び外周端の少なくともいずれかには、前記磁気記録媒体の基板におけるパターン形成予定領域の内周端、及び外周端の少なくともいずれかに対して延長されたダミーパターンが形成されたことを特徴とするインプリント用モールド構造体等である。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
円板状の基板と、該基板における一の表面上に、該表面を基準として円周方向に沿って複数の凸部が同心円状に形成されたデータ領域の凹凸部と、前記一の表面上に、該表面を基準として放射状に複数の凸部が形成されたサーボ領域の凹凸部とを有し、円板状の磁気記録媒体の基板上に形成されたインプリントレジスト組成物よりなるインプリントレジスト層に前記データ領域の凹凸部及びサーボ領域の凹凸部を押圧して前記インプリントレジスト層上に凹凸パターンを転写するインプリント用モールド構造体であって、 該インプリント用モールド構造体の基板及び前記磁気記録媒体の基板のそれぞれの中心を基準として、データ領域の凹凸部及びサーボ領域の凹凸部の内周端、及び外周端の少なくともいずれかには、前記磁気記録媒体の基板におけるパターン形成予定領域の内周端、及び外周端の少なくともいずれかに対して半径方向に延長されたダミーパターンが形成されたことを特徴とするインプリント用モールド構造体。
IPC (4件)：
G11B 5/855 ,  H01L 21/027 ,  G11B 5/82 ,  B29C 59/02
FI (4件)：
G11B5/855 ,  H01L21/30 502D ,  G11B5/82 ,  B29C59/02 Z
Fターム (27件)：
4F209AF01 ,  4F209AG03 ,  4F209AG05 ,  4F209AG19 ,  4F209AH38 ,  4F209AH79 ,  4F209PA02 ,  4F209PB01 ,  4F209PN06 ,  4F209PQ11 ,  5D006BB07 ,  5D006DA03 ,  5D006DA04 ,  5D006DA08 ,  5D006EA00 ,  5D112AA03 ,  5D112AA04 ,  5D112AA05 ,  5D112AA19 ,  5D112AA24 ,  5D112BB05 ,  5D112BD03 ,  5D112FA04 ,  5D112GA00 ,  5D112GA17 ,  5F046AA28 ,  5F046BA10
引用特許：
出願人引用 (4件)
全件表示
審査官引用 (1件)

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