特許
J-GLOBAL ID:200903086026679637
微小部蛍光X線分析装置
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
塩野入 章夫
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-139667
公開番号(公開出願番号):特開2003-329621
出願日: 2002年05月15日
公開日(公表日): 2003年11月19日
要約:
【要約】【課題】 微小部蛍光分析装置に一次X線フィルタを設け、特性X線の分析能を高めること。【解決手段】 X線集光用キャピラリレンズ3を用いることによりX線を試料Sの微小部分に集光させて微小部を分析する蛍光X線分析装置1を構成すると共に、このX線集光用キャピラリレンズ3とX線源2との間に一次X線フィルタ(一次X線フィルタ変換装置20)を配置することにより、X線の集光位置の近傍付近への構成要素の配置が困難な微小部蛍光X線分析装置への一次X線フィルタの設置を可能とする。
請求項(抜粋):
X線源と、X線源から発生したX線を試料に集光させるX線集光用キャピラリレンズと、試料から発生した特性X線を検出する検出器とを備える微小部蛍光X線分析装置であって、前記X線源と前記X線集光用キャピラリレンズとの間に、一次X線フィルタを備えることを特徴とする微小部蛍光X線分析装置。
Fターム (11件):
2G001AA01
, 2G001BA04
, 2G001CA01
, 2G001EA06
, 2G001GA01
, 2G001GA06
, 2G001JA01
, 2G001KA01
, 2G001PA11
, 2G001PA14
, 2G001SA02
引用特許:
審査官引用 (6件)
-
半導体評価装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平7-319983
出願人:株式会社日立製作所
-
光電子分光装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-333387
出願人:株式会社ニコン
-
特開昭62-038350
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