3層レジスト中間層用樹脂組成物

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：久保山隆 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-281221
公開番号（公開出願番号）：特開2003-177544
出願日： 2002年09月26日
公開日（公表日）： 2003年06月27日
要約：

【要約】【課題】レジスト溶媒としてケトン系、芳香族系などが用いられる場合でも上層レジスト塗布時に中間層が溶解しにくく、上層レジストとの界面にミキシング層が形成されにくく、経時変化が少なく保存安定性に優れ、クラックが入りにくい硬化皮膜を形成可能な3層レジスト中間層用樹脂組成物を提供する。【解決手段】(A)特定の有機けい素化合物で末端を封止してなる重量平均分子量が1、000〜50、000の末端封止ポリオルガノシロキサン樹脂及び(B)電磁線または熱により酸を発生する化合物を含有してなることを特徴とする3層レジスト中間層用樹脂組成物。

請求項（抜粋）：

(A)下記一般式(1)〜(4)で表されるいずれかの有機けい素化合物で末端を封止してなる重量平均分子量が1、000〜50、000の末端封止ポリオルガノシロキサン樹脂及び(B)電磁線または熱により酸を発生する化合物を含有してなることを特徴とする3層レジスト中間層用樹脂組成物。(1)(式中、Xはハロゲン原子を表し、Rは、それぞれ独立に、炭素数1〜20の一価の有機基を表し、R1〜R3は、それぞれ独立に、炭素数1〜20の一価の有機基を表し、pは1〜3の整数を表す。)(2)(式中、X、Rは、前記と同じ意味を表し、R4〜R10は、それぞれ独立に、水素原子を表わすか、または炭素数1〜20の一価の有機基を表し、aは0〜6の整数を表し、qは1〜3の整数を表す。)(3)(式中、X、Rは、前記と同じ意味を表し、R11〜R19は、それぞれ独立に、水素原子を表わすか、または炭素数1〜20の一価の有機基を表し、b、cは1〜6の整数を表し、rは1〜3の整数を表す。)(4)(式中、X、Rは、前記と同じ意味を表し、R20〜R34は、それぞれ独立に、水素原子を表わすか、または炭素数1〜20の一価の有機基を表し、sは1〜3の整数を表す。)

IPC (4件)：

G03F 7/11 502 , C08G 77/38 , G03F 7/075 521 , H01L 21/027

FI (4件)：

G03F 7/11 502 , C08G 77/38 , G03F 7/075 521 , H01L 21/30 502 R

Fターム (18件)：

2H025AA04 , 2H025AA11 , 2H025AA13 , 2H025AB16 , 2H025AC04 , 2H025AC05 , 2H025AD01 , 2H025AD03 , 2H025DA14 , 2H025DA40 , 2H025FA17 , 4J035BA01 , 4J035CA06U , 4J035CA062 , 4J035CA25M , 4J035FB02 , 4J035HB05 , 4J035LB16

引用特許：

出願人引用 (6件)

特開平4-5658号公報(第1頁)
特開平4-005658
シリコーン樹脂組成物及びこれを用いたケイ酸ガラス薄膜の製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-231004 出願人：沖電気工業株式会社

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審査官引用 (5件)

特開平4-005658
シリコーン樹脂組成物及びこれを用いたケイ酸ガラス薄膜の製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-231004 出願人：沖電気工業株式会社
シリコーン樹脂及びこれを用いた組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-142388 出願人：沖電気工業株式会社

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