特許
J-GLOBAL ID：200903086294404047

真空装置

発明者：
大見 忠弘

大見 忠弘 について

, 
平山 昌樹

平山 昌樹 について


出願人/特許権者：
大見 忠弘

大見 忠弘 について

, 
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について


代理人 (1件)： 伊東 忠彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-115888
公開番号（公開出願番号）：特開2004-218648
出願日： 2004年04月09日
公開日（公表日）： 2004年08月05日
要約：
【課題】 装置消費電力および装置専有面積が小さく、不純物ガスが排気系から真空容器内にまわり込むことがなく、大流量ガスを流し得る真空装置を提供する。【解決手段】 ガス導入口と排気口を備える複数の真空容器と、該ガス導入口から該真空容器内に所望のガスを導入するためのガス供給システムと、該真空容器内を減圧に保つための排気システムを備える真空装置において、該排気システムは直列に多段に接続された複数の真空ポンプを有し、該複数の真空ポンプのうち、低真空ポンプが該真空容器直近に設置され、複数の該低真空ポンプから共通の配管で最終段真空ポンプに接続され、該最終段真空ポンプの排気口圧力は、略大気圧であり、該最終段真空ポンプは、1台あたり複数の前段真空ポンプからのガスを排気するように構成されている。【選択図】 図4
請求項（抜粋）：
ガス導入口と排気口を備える複数の真空容器と、該ガス導入口から該真空容器内に所望のガスを導入するためのガス供給システムと、該真空容器内を減圧に保つための排気システムを備える真空装置において、 該排気システムは直列に多段に接続された複数の真空ポンプを有し、 該複数の真空ポンプのうち、低真空ポンプが該真空容器直近に設置され、複数の該低真空ポンプから共通の配管で最終段真空ポンプに接続され、 該最終段真空ポンプの排気口圧力は、略大気圧であり、 該最終段真空ポンプは、1台あたり複数の前段真空ポンプからのガスを排気するように構成されていることを特徴とする真空装置。
IPC (3件)：
F04B37/16 ,  F04C25/02 ,  H01L21/3065
FI (3件)：
F04B37/16 D ,  F04C25/02 K ,  H01L21/302 101G
Fターム (24件)：
3H029AA06 ,  3H029AB02 ,  3H029AB06 ,  3H029AB08 ,  3H029CC22 ,  3H029CC63 ,  3H029CC91 ,  3H076AA16 ,  3H076AA21 ,  3H076AA37 ,  3H076AA39 ,  3H076BB21 ,  3H076BB38 ,  3H076BB41 ,  3H076CC91 ,  3H076CC94 ,  3H076CC95 ,  3H076CC97 ,  5F004AA16 ,  5F004BD01 ,  5F004BD04 ,  5F004DA00 ,  5F004DA23 ,  5F004DA26
引用特許：
審査官引用 (10件)
  • 真空処理装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-108484   出願人：東京エレクトロン株式会社
  • 処理装置の真空排気システム
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-284391   出願人：東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン東北株式会社
  • 特開平1-159475
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