特許
J-GLOBAL ID：200903086693791437

パターン形成方法

発明者：
若田 裕一

若田 裕一 について

, 
石川 弘美

石川 弘美 について

, 
下山 裕司

下山 裕司 について


出願人/特許権者：
富士写真フイルム株式会社

富士写真フイルム株式会社 について


代理人 (3件)： 廣田 浩一 ,  流 良広 ,  松田 奈緒子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-160482
公開番号（公開出願番号）：特開2005-338667
出願日： 2004年05月31日
公開日（公表日）： 2005年12月08日
要約：
【課題】 感光層上に結像させる像の歪みを抑制することにより、フォトポリマー系感材として一般的なカチオン重合性化合物を含む感光層を用いて形成させるパターンを高精細に、かつ、効率よく形成可能なパターン形成方法の提供。 【解決手段】 カチオン重合性化合物、及び光カチオン重合開始剤を含む感光層に対し、 光照射手段からの光を受光し出射する描素部をn個有する光変調手段により、前記光照射手段からの光を変調させた後、前記描素部における出射面の歪みによる収差を補正可能な非球面を有するマイクロレンズを配列したマイクロレンズアレイを通して露光を行うことを少なくとも含むことを特徴とするパターン形成方法。該非球面は、トーリック面であることが好ましい。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
カチオン重合性化合物、及び光カチオン重合開始剤を含む感光層に対し、 光照射手段からの光を受光し出射する描素部をn個有する光変調手段により、前記光照射手段からの光を変調させた後、前記描素部における出射面の歪みによる収差を補正可能な非球面を有するマイクロレンズを配列したマイクロレンズアレイを通して露光を行うことを少なくとも含むことを特徴とするパターン形成方法。
IPC (4件)：
G03F7/20 ,  G03F7/004 ,  G03F7/038 ,  H01L21/027
FI (5件)：
G03F7/20 505 ,  G03F7/004 503Z ,  G03F7/004 512 ,  G03F7/038 503 ,  H01L21/30 529
Fターム (20件)：
2H025AB11 ,  2H025AB17 ,  2H025AB20 ,  2H025AC01 ,  2H025AD01 ,  2H025BC23 ,  2H025BD03 ,  2H025BE07 ,  2H025CA48 ,  2H025CB14 ,  2H025FA03 ,  2H025FA17 ,  2H097CA17 ,  2H097GB03 ,  2H097LA09 ,  5F046BA10 ,  5F046CA03 ,  5F046CB01 ,  5F046CB04 ,  5F046CB12
引用特許：
出願人引用 (3件)

前のページに戻る

TOP

BOTTOM