特許
J-GLOBAL ID：200903086801968705

洗浄装置

発明者：
安武 健司

安武 健司 について

, 
田寺 孝光

田寺 孝光 について


出願人/特許権者：
シャープ株式会社

シャープ株式会社 について


代理人 (6件)： 深見 久郎 ,  森田 俊雄 ,  仲村 義平 ,  堀井 豊 ,  野田 久登 ,  酒井 將行
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-372938
公開番号（公開出願番号）：特開2005-131602
出願日： 2003年10月31日
公開日（公表日）： 2005年05月26日
要約：
【課題】 フラットパネルディスプレイや半導体の製造工程などで用いられるガラス基板、シリコン基板などを洗浄する際に、超音波の定在波を安定的に発生させることができ、また、洗浄液の使用量を減少させることができる洗浄装置を提供する。【解決手段】 被洗浄基板1を搬送する搬送機構としての搬送ローラ2と、被洗浄基板1の被洗浄面1aの側に位置して超音波を反射する反射板9と、被洗浄基板1の被洗浄面1aと反射板9の内表面9aとの間に洗浄液5を噴射するジェットノズル3と、被洗浄基板1の被洗浄面1aの裏面1bに超音波を印加した液体8を噴射する超音波ノズル7とにより洗浄装置を構成する。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
被洗浄基板を、その被洗浄面を上向きにして搬送する搬送機構と、 被洗浄基板の前記被洗浄面に洗浄液を噴射する高圧ノズルと、 前記被洗浄基板の下面に超音波を印加した液体を噴射する超音波ノズルと、 前記超音波ノズル上方における、前記洗浄液の液膜厚を安定化させる液膜厚安定化手段とを備えた洗浄装置。
IPC (4件)：
B08B3/12 ,  B08B3/02 ,  G02F1/13 ,  H01L21/304
FI (4件)：
B08B3/12 D ,  B08B3/02 C ,  G02F1/13 101 ,  H01L21/304 643D
Fターム (10件)：
2H088FA21 ,  2H088FA30 ,  2H088HA01 ,  2H088MA20 ,  3B201AA02 ,  3B201AB14 ,  3B201BB24 ,  3B201BB85 ,  3B201BB86 ,  3B201BB92
引用特許：
出願人引用 (2件) 審査官引用 (5件)
  • 超音波洗浄装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-362469   出願人：シャープ株式会社
  • 基板洗浄装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-004930   出願人：ユーシーティー株式会社
  • ウエット処理装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-148161   出願人：大見忠弘, 株式会社フロンテック
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