特許

J-GLOBAL ID：200903086992665472

高均質の光学用合成石英ガラスおよびその製造方法

発明者： 上田 哲司 ,  西村 裕幸 ,  藤ノ木 朗
出願人/特許権者： 信越石英株式会社
代理人 (1件)： 高橋 昌久 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-024358
公開番号（公開出願番号）：特開2001-220159
出願日： 2000年02月01日
公開日（公表日）： 2001年08月14日
要約：

【要約】【課題】光学用途、特に光リソグラフィー装置用に好適な高均質の石英ガラス提供およびその製造方法の提供、特に工程汚染による透過率の低下を抑える熱処理方法の提供。【解決手段】被処理物である円柱形合成石英ガラスを、外径/高さの比が1.8以上の円筒形蓋付き合成石英ガラス容器に収納し、加熱炉内で熱処理する。

請求項（抜粋）：

加熱炉内で熱処理して均質な光学用合成石英ガラスを製造する方法において、略円柱形の合成石英ガラスを、底板および蓋板を含めた円筒部分の形状において、外径/高さの比が1.8以上である円筒形蓋付き合成石英ガラス容器に入れて、加熱炉内で熱処理することを特徴とする高均質の光学用合成石英ガラスの製造方法。

IPC (5件)：

C03B 20/00 ,  C03C 3/06 ,  F27B 5/10 ,  G02B 1/00 ,  H01L 21/027

FI (6件)：

C03B 20/00 E ,  C03B 20/00 F ,  C03C 3/06 ,  F27B 5/10 ,  G02B 1/00 ,  H01L 21/30 515 D

Fターム (68件)：

4G014AH11 ,  4G014AH23 ,  4G062AA04 ,  4G062BB02 ,  4G062DA08 ,  4G062DB01 ,  4G062DC01 ,  4G062DD01 ,  4G062DE01 ,  4G062DF01 ,  4G062EA01 ,  4G062EA10 ,  4G062EB01 ,  4G062EB02 ,  4G062EC01 ,  4G062ED01 ,  4G062EE01 ,  4G062EF01 ,  4G062EG01 ,  4G062FA01 ,  4G062FA10 ,  4G062FB01 ,  4G062FC01 ,  4G062FD01 ,  4G062FE01 ,  4G062FF01 ,  4G062FG01 ,  4G062FH01 ,  4G062FJ01 ,  4G062FK01 ,  4G062FL01 ,  4G062GA01 ,  4G062GA10 ,  4G062GB01 ,  4G062GC01 ,  4G062GD01 ,  4G062GE01 ,  4G062HH01 ,  4G062HH03 ,  4G062HH05 ,  4G062HH07 ,  4G062HH09 ,  4G062HH11 ,  4G062HH13 ,  4G062HH15 ,  4G062HH17 ,  4G062HH20 ,  4G062JJ01 ,  4G062JJ03 ,  4G062JJ05 ,  4G062JJ07 ,  4G062JJ10 ,  4G062KK01 ,  4G062KK03 ,  4G062KK05 ,  4G062KK07 ,  4G062KK10 ,  4G062MM02 ,  4G062MM04 ,  4G062NN01 ,  4K061AA01 ,  4K061AA05 ,  4K061BA00 ,  4K061CA08 ,  4K061CA13 ,  4K061DA05 ,  5F046CA04 ,  5F046CB12

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 合成石英ガラス光学体の改質方法 および合成石英ガラス光学体
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-065914   出願人：株式会社ニコン
• 石英ガラスの製造方法及びそれにより製造された 石英ガラス
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-330740   出願人：株式会社ニコン
• 高出力真空紫外線用合成シリカガラス光学材料およびその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-145938   出願人：信越石英株式会社