特許
J-GLOBAL ID：200903087044238903

有機電界発光素子の製造方法

発明者：
西口 昌男

西口 昌男 について

, 
西村 貞一郎

西村 貞一郎 について


出願人/特許権者：
ソニー株式会社

ソニー株式会社 について


代理人 (1件)： 舘野 千惠子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-342607
公開番号（公開出願番号）：特開2004-178915
出願日： 2002年11月26日
公開日（公表日）： 2004年06月24日
要約：
【課題】有機電界発光素子を製造するに際し、凸版反転オフセット印刷方法に使用するシリコンブランケット上に、高分子有機EL材料を含む塗布液を均一層厚で塗布する。【解決手段】湿式塗布装置ではグラビアロール2として、両端部にテーパをつけたものを設ける。この場合、このテーパ部2b,2cを、シリコンブランケット1の有効画素形成部分の両側にある画素形成不要部分の直下に位置させる。こうすることで、上記有効画素形成部分とグラビアロール表面との間に保持される接液部3aの膜幅を、シリコンブランケットの回転軸方向に均一に維持しながら、塗布液をシリコンブランケット表面にその下方から供給・塗布する。この塗布方法によれば、接液部3aの膜幅ムラ等が、画像形成が不必要な部分に対応する上記テーパ部で吸収される。【選択図】 図2
請求項（抜粋）：
第1の電極と第2の電極との間に、画素ごとにパターニングされた発光領域を有する層が形成された有機電界発光素子の製造方法であって、 前記発光領域を有する層のうち少なくとも1層を、 シリコンブランケット表面に前記層の構成材料を含む塗布液よりなる塗布膜を形成し、次いで該塗布膜に凸版を押圧し、該押圧部分の前記塗布膜をシリコンブランケットから前記凸版に転写除去し、次いでシリコンブランケット表面に残った前記塗布膜からなるパターンを前記層の被形成面に転写することによって形成し、 前記塗布液は、グラビアパターンの形成されたグラビアロールを介して前記シリコンブランケット表面にその下方から供給・塗布することを特徴とする有機電界発光素子の製造方法。
IPC (5件)：
H05B33/10 ,  B05D1/28 ,  B05D7/00 ,  B41M1/02 ,  H05B33/14
FI (5件)：
H05B33/10 ,  B05D1/28 ,  B05D7/00 H ,  B41M1/02 ,  H05B33/14 A
Fターム (24件)：
2H113AA01 ,  2H113AA04 ,  2H113BA01 ,  2H113BB09 ,  2H113BC12 ,  2H113CA17 ,  2H113DA64 ,  2H113FA10 ,  3K007AB02 ,  3K007AB03 ,  3K007AB18 ,  3K007DB03 ,  3K007FA01 ,  4D075AC25 ,  4D075AC41 ,  4D075CA47 ,  4D075CB08 ,  4D075DA06 ,  4D075DA31 ,  4D075DB13 ,  4D075DC24 ,  4D075EA05 ,  4D075EA45 ,  4D075EB11
引用特許：
出願人引用 (9件)
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審査官引用 (8件)
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