特許
J-GLOBAL ID：200903087048836791

磁気記録媒体用基板及びその粗面化方法

発明者：
金子 英雄

金子 英雄 について


出願人/特許権者：
信越化学工業株式会社

信越化学工業株式会社 について


代理人 (1件)： 山本 亮一 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-151743
公開番号（公開出願番号）：特開平10-340443
出願日： 1997年06月10日
公開日（公表日）： 1998年12月22日
要約：
【要約】 (修正有)【課題】 高記録密度化が可能で、エラーレート、CSS 特性の優れた表面荒れを有する磁気記録媒体用シリコン基板と、その表面粗面化方法を提供する。【解決手段】 磁性薄膜を有する磁気記録媒体に用いる基板において、基板がシリコンからなり、情報を記録する面の最大高さ(Rmax)が 100nm以下であり、かつ深さ0.2 μm以上面積1μm2 以上の窪みが1個/mm2以下であり、最大高さRmaxの最小値をmin(Rmax) 、最大値をmax(Rmax) とすると、min(Rmax) /max(Rmax) >0.2であることを特徴とする磁気記録媒体用基板。
請求項（抜粋）：
磁性薄膜を有する磁気記録媒体に用いる基板において、基板がシリコンからなり、情報を記録する面の最大高さ(Rmax)が 100nm以下であり、かつ深さ0.2 μm以上面積1μm2 以上の窪みが1個/mm2以下であり、最大高さRmaxの最小値をmin(Rmax) 、最大値をmax(Rmax) とすると、min(Rmax) /max(Rmax) >0.2であることを特徴とする磁気記録媒体用基板。
IPC (2件)：
G11B 5/66 ,  G11B 5/84
FI (2件)：
G11B 5/66 ,  G11B 5/84 Z
引用特許：
審査官引用 (4件)
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