特許
J-GLOBAL ID：200903087110794561
化学増幅型ネガ型レジスト組成物
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
阿形 明 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-023182
公開番号（公開出願番号）：特開平11-218919
出願日： 1998年02月04日
公開日（公表日）： 1999年08月10日
要約：
【要約】【課題】 断面が矩形で良好なプロファイル形状のレジストパターンを形成しうるとともに、優れた感度を有する化学増幅型ネガ型レジスト組成物を提供する。【解決手段】 (A)アルカリ可溶性樹脂、(B)ハロゲン酸発生剤とビス(アルキルスルホニル)ジアゾメタンとの重量比20:1ないし1:2の混合物及び(C)架橋剤を配合して化学増幅型ネガ型レジスト組成物とする。
請求項（抜粋）：
(A)アルカリ可溶性樹脂、(B)放射線の照射により酸を発生する化合物及び(C)架橋剤を含有してなるレジスト組成物において、(B)成分として、ハロゲン酸発生剤とビス(アルキルスルホニル)ジアゾメタンとの重量比20:1ないし1:2の混合物を用いることを特徴とする化学増幅型ネガ型レジスト組成物。
IPC (2件)：
G03F 7/038 601
, G03F 7/004 503
G03F 7/038 601
, G03F 7/004 503 A
