ネガ型レジスト組成物

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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：阿形明 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-093974
公開番号（公開出願番号）：特開平8-292559
出願日： 1995年04月19日
公開日（公表日）： 1996年11月05日
要約：

【要約】【構成】 (A)アルカリ可溶性樹脂、(B)放射線の照射により酸を発生する化合物及び(C)架橋剤を含有して成るネガ型レジスト組成物において、(A)成分のアルカリ可溶性樹脂として、重量平均分子量1,000未満の低分子量部分を含まない分子量分布1〜1.4のポリヒドロキシスチレン系樹脂を用いたネガ型レジスト組成物である。【効果】このネガ型レジスト組成物は、マイクロブリッジの発生がなく、高解像性のレジストパターンを与えることができる上に、高感度であり、半導体素子や液晶素子などの製造に好適に用いられる。

請求項（抜粋）：

(A)アルカリ可溶性樹脂、(B)放射線の照射により酸を発生する化合物及び(C)架橋剤を含有して成るネガ型レジスト組成物において、(A)成分のアルカリ可溶性樹脂として、重量平均分子量1,000以下の部分を含まず、かつ分子量分布(Mw/Mn)1〜1.4のポリヒドロキシスチレン系樹脂を用いることを特徴とする化学増幅型ネガ型レジスト組成物。

IPC (4件)：

G03F 7/004 503 , G03F 7/004 501 , G03F 7/038 505 , H01L 21/027

FI (4件)：

G03F 7/004 503 , G03F 7/004 501 , G03F 7/038 505 , H01L 21/30 502 R

引用特許：

審査官引用 (10件)

ネガ型感放射線レジスト組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-101861 出願人：東京応化工業株式会社
レジストパターンの形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-248044 出願人：富士通株式会社
特開平4-356505

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