特許

J-GLOBAL ID：200903087117336089

パターン形成方法及びTFTアレイ基板並びに液晶表示素子

発明者： 岩崎 政幸 ,  尾崎 多可雄
出願人/特許権者： 富士写真フイルム株式会社
代理人 (3件)： 廣田 浩一 ,  流 良広 ,  松田 奈緒子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-177159
公開番号（公開出願番号）：特開2006-003422
出願日： 2004年06月15日
公開日（公表日）： 2006年01月05日
要約：

【課題】 大画面用の液晶ディスプレイ(LCD)、プラズマディスプレイ(PDP)の作製に好適なパターン形成方法及びTFTアレイ基板並びに液晶表示素子の提供。【解決手段】 ポジ型感光性組成物を用いて基材の表面に、少なくとも、ポジ型感光層を形成するポジ型感光層形成工程と、光照射手段からの光を受光し出射する描素部をn個有する光変調手段により、前記光照射手段からの光を変調させた後に、前記描素部における出射面の歪みによる収差を補正可能な非球面を有するマイクロレンズが配列されたマイクロレンズアレイを通過させた光によって、前記ポジ型感光層を、露光する露光工程と、該露光工程により露光されたポジ型感光層を現像する現像工程とを含むパターン形成方法である。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

ポジ型感光性組成物を用いて基材の表面に、少なくとも、ポジ型感光層を形成するポジ型感光層形成工程と、 光照射手段からの光を受光し出射する描素部をn個有する光変調手段により、前記光照射手段からの光を変調させた後に、前記描素部における出射面の歪みによる収差を補正可能な非球面を有するマイクロレンズが配列されたマイクロレンズアレイを通過させた光によって、前記ポジ型感光層を、露光する露光工程と、 該露光工程により露光されたポジ型感光層を現像する現像工程とを含むことを特徴とするパターン形成方法。

IPC (5件)：

G03F 7/20 ,  G02F 1/13 ,  G02F 1/136 ,  G03F 7/022 ,  H01L 21/027

FI (5件)：

G03F7/20 501 ,  G02F1/13 101 ,  G02F1/1362 ,  G03F7/022 ,  H01L21/30 529

Fターム (36件)：

2H025AA00 ,  2H025AB14 ,  2H025AB16 ,  2H025AB17 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE01 ,  2H025CB29 ,  2H025FA17 ,  2H088FA18 ,  2H088FA25 ,  2H088FA26 ,  2H088HA01 ,  2H088HA02 ,  2H088HA04 ,  2H088HA08 ,  2H088MA03 ,  2H088MA16 ,  2H088MA20 ,  2H092JA24 ,  2H092KA09 ,  2H092KA13 ,  2H092KA19 ,  2H092KA23 ,  2H092KB05 ,  2H092KB15 ,  2H092MA12 ,  2H092MA16 ,  2H092NA27 ,  2H092NA29 ,  2H097AA03 ,  2H097CA17 ,  2H097GB04 ,  2H097LA12 ,  5F046BA06 ,  5F046BA07

引用特許：

出願人引用 (4件)

• ポジ型ホトレジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-206241   出願人：東京応化工業株式会社
• 微細レジストパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-275933   出願人：クラリアントジャパン株式会社
• 液晶表示装置用薄膜トランジスタ基板及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-000160   出願人：三星電子株式会社
• 液晶表示装置およびその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-144586   出願人：株式会社日立製作所

審査官引用 (3件)

• 画像形成装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-287639   出願人：富士写真フイルム株式会社
• 微細構造体の製造方法、レーザ描画装置、電気光学装置の製造方法及び電気光学装置の製造装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-236359   出願人：セイコーエプソン株式会社
• 特開平4-251849