処理装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：亀谷美明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-073430
公開番号（公開出願番号）：特開平11-260881
出願日： 1998年03月06日
公開日（公表日）： 1999年09月24日
要約：

【要約】【課題】真空容器間の熱の移動を抑制可能なアダプタを備えた処理装置を提供する。【解決手段】処理装置100のトランスファチャンバ(TC)102aを囲う真空容器(TC容器)102と,エッチング装置104のプロセスチャンバ(PC)104aを囲う真空容器(処理容器)140は,TC容器102側に配される第1アダプタ116と,処理容器140側に配される第2アダプタ118により接続される。第1及び第2アダプタ116,118には,それぞれに対応して,TC102a内とPC104a内に連通する第1搬送路116cと第2搬送路118aが形成される。第2アダプタ118は,セラミックスから成り,アダプタ挿着時に処理容器140の外壁面に開口が形成されるように,第2アダプタ118の処理容器140との接続面に座ぐり穴118b,118c,118d,118eが形成される。

請求項（抜粋）：

少なくとも2つの真空容器を相互に接続するアダプタを備えた処理装置であって,前記アダプタは,被処理体を前記各真空容器間で搬送する搬送路と,一の前記真空容器から他の前記真空容器への伝熱経路中に設けられたバッファ空間を有することを特徴とする,処理装置。

引用特許：

審査官引用 (4件)

搬送装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-268188 出願人：株式会社荏原製作所
ジョイント装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-353046 出願人：東京エレクトロン株式会社
処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-204802 出願人：東京エレクトロン株式会社, 株式会社東芝

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