特許

J-GLOBAL ID：200903087182104683

新規なオキシムスルホナート類及び潜伏性スルホン酸としてのこれらの用途

発明者： 山戸 斉 ,  ブライアー,ハルトムート ,  ビルボーム,ジャン-リュク ,  クンツ,マルティン ,  ディートリカー,クルト ,  デ レオ,クリストフ ,  朝倉 敏景
出願人/特許権者： チバ スペシャルティ ケミカルズ ホールディング インコーポレーテッド
代理人 (1件)： 津国 肇 (外1名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-506240
公開番号（公開出願番号）：特表2002-508774
出願日： 1998年06月19日
公開日（公表日）： 2002年03月19日
要約：

【要約】式(I)又は(II)[式中、mは、0又は1であり;xは、1又は2であり;R1は、例えばフェニル(非置換であるか、又は置換されている)であるか、あるいはR1は、ヘテロアリール基(非置換であるか、又は置換されている)であるか、あるいは、mが0であるならば、R1は、追加的にC2-C6アルコキシカルボニル、フェノキシカルボニル又はCNであり;R'1は、例えばC2-C12アルキレン、フェニレンであり;R2は、例えばR1の1つの意味を有し;nは、1又は2であり;R3は、例えばC1-C18アルキルであり;R'3は、xが1であるとき、R3の1つの意味を有するか、あるいは式(IV)中の、及び式(I)中でxが2であるとき、R'3は、例えばC2-C12アルキレン、フェニレンであり;R4及びR5は、相互に独立に、例えば水素、ハロゲン、C1-C6アルキルであり;R6は、例えば水素、フェニルであり;R7及びR8は、相互に独立に、例えば水素又はC1-C12アルキルであり;R9は、例えばC1-C12アルキルであり;Aは、S、O、NR6、又は式(A1)、(A2)、(A3)もしくは(A4)の基であり;R10及びR11は、相互に独立に、R4の1つの意味を有し;R12、R13、R14及びR15は、相互に独立に、例えば水素、C1-C4アルキルであり;Zは、CR11又はNであり;Z1は、-CH2-、S、O又はNR6である]の新規なオキシムスルホナート化合物は、潜伏性スルホン酸として、特にホトレジスト応用において有用である。

請求項（抜粋）：

式(I)又は(II):[式中、 mは、0又は1であり; xは、1又は2であり; R1は、フェニル(非置換であるか、又は1個以上の基:C1-C12アルキル、C1-C4ハロアルキル、ハロゲン、フェニル、OR6、NR7R8、SR9及び/もしくは-S-フェニルにより置換されている(ここで、置換基:OR6、SR9及びNR7R8は、基:R6、R7、R8及び/又はR9を介して、フェニル環上の別の置換基とともに、又はフェニル環の1個の炭素原子とともに、5員又は6員環を形成することができる))であるか、あるいはR1は、ナフチル、アントラシル又はフェナントリル(基:ナフチル、アントラシル及びフェナントリルは、非置換であるか、又はC1-C6アルキル、フェニル、OR6、NR7R8、SR9及び/もしくは-S-フェニルにより置換されている(ここで、置換基:OR6、SR9及びNR7R8は、基:R6、R7、R8及び/又はR9を介して、ナフチル、アントラシルもしくはフェナントリル環上の別の置換基とともに、又はナフチル、アントラシルもしくはフェナントリル環の1個の炭素原子とともに、5員又は6員環を形成することができる))であるか、あるいはR1は、ヘテロアリール基(非置換であるか、又はC1-C6アルキル、フェニル、OR6、NR7R8、SR9及び/もしくは-S-フェニルにより置換されている(ここで、置換基:OR6、SR9及びNR7R8は、基:R6、R7、R8及び/又はR9を介して、ヘテロアリール環上の別の置換基とともに、又はヘテロアリール環の1個の炭素原子とともに、5員又は6員環を形成することができる))であるか、あるいは、mが0であるならば、R1は、追加的にC2-C6アルコキシカルボニル、フェノキシカルボニル又はCNであるか;あるいはR1は、H又はC1-C12アルキルであり(ただし、R2が同時にH又はアルキルとなることはない); R'1は、C2-C12アルキレン、フェニレン、ナフチレン、ジフェニレン又はオキシジフェニレン(基:フェニレン、ナフチレン、ジフェニレン及びオキシジフェニレンは、非置換であるか、又はC1-C12アルキルにより置換されている)であり; R2は、R1の1つの意味を有するか、あるいは非置換又はCN-置換フェニル、C2-C6アルカノイル、ベンゾイル(非置換であるか、又はC1-C6アルキル、フェニル、OR6、SR9、NR7R8及び/もしくは-S-フェニルにより置換されている)であるか、あるいはR2は、フェノキシカルボニル、NO2、C1-C4ハロアルキル、S(O)nC1-C6アルキル、非置換又はC1-C12アルキル-置換S(O)n-C6-C12アリール、SO2O-C1-C6アルキル、SO2O-C6-C10アリール、ジフェニル-ホスフィノイル又はNHCONH2であるか、あるいはR1及びR2は、CO基と一緒に、非置換であるか、又はC1-C6アルキル、フェニル、OR6、SR9、NR7R8及び/もしくは-S-フェニルにより置換されている、5員又は6員環を形成し、そして該環は、追加的にO、S、NR7及び/又はCOにより中断されていてもよく、そしてこの環に1個以上のベンゾ基が縮合していてもよく; nは、1又は2であるか;あるいは R3は、C1-C18アルキル、フェニル-C1-C3アルキル、カンホリル、C1-C10ハロアルキル、フェニル、ナフチル、アントラシル又はフェナントリル(基:フェニル、ナフチル、アントラシル及びフェナントリルは、非置換であるか、又は1個以上の基:ハロゲン、C1-C4ハロアルキル、CN、NO2、C1-C16アルキル、フェニル、OR6、COOR9、-OCO-C1-C4アルキル、SO2OR9及び/もしくはNR7R8により置換されている)であり; R'3は、xが1であるとき、R3の1つの意味を有し、そしてxが2であるとき、R'3は、C2-C12アルキレン、フェニレン、ナフチレン、ジフェニレン又はオキシジフェニレン(基:フェニレン、ナフチレン、ジフェニレン及びオキシジフェニレンは、非置換であるか、又はC1-C12アルキルにより置換されている)であり; R4及びR5は、相互に独立に、水素、ハロゲン、C1-C6アルキル、C1-C6アルコキシ、C1-C4ハロアルキル、CN、NO2、C2-C6アルカノイル、ベンゾイル、フェニル、-S-フェニル、OR6、SR9、NR7R8、C2-C6アルコキシカルボニル、フェノキシカルボニル、S(O)nC1-C6アルキル、非置換又はC1-C12アルキル一置換S(O)n-C6-C12アリール、SO2O-C1-C6アルキル、SO2O-C6-C10アリール又はNHCONH2であるか、あるいはR4及びR5は、一緒に-C(R12)=C(R13)-C(R14)=C(R15)-であり; R6は、水素、フェニル、C1-C12アルキル(非置換であるか、又はフェニル、OH、C1-C12アルコキシ、C1-C12アルキルスルホニル、フェニルスルホニル、(4-メチルフェニル)スルホニル及び/もしくはC2-C6アルカノイルにより置換されている)であり、そして該C1-C12アルキルは、追加的に-O-により中断されていてもよく; R7及びR8は、相互に独立に、水素又はC1-C12アルキル(非置換であるか、又はOH、C1-C4アルコキシ、C1-C12アルキルスルホニル、フェニルスルホニル、(4-メチルフェニル)スルホニル及び/もしくはC1-C6アルカノイルにより置換されている)であり、そして該C1-C12アルキルは、追加的に-O-により中断されていてもよいか;あるいはR7及びR8は、フェニル、C2-C6アルカノイル、ベンゾイル、C1-C6アルキルスルホニル、フェニルスルホニル、(4-メチルフェニル)スルホニル、ナフチルスルホニル、アントラシルスルホニル又はフェナントリルスルホニルであるか、あるいはR7及びR8は、これらが結合している窒素原子と一緒に、-O-又は-NR6-により中断されていてもよい、5員、6員又は7員環を形成し; R9は、C1-C12アルキル(非置換であるか、又はOH及び/もしくはC1-C4アルコキシにより置換されている)であり、そして該C1-C12アルキルは、追加的に-O-により中断されていてもよく; Aは、S、O、NR6、又は式(A1)、(A2)、(A3)もしくは(A4):で示される基であり; R10及びR11は、相互に独立に、R4の1つの意味を有するか、あるいはR10及びR11は、一緒に-CO-NR6CO-であるか、あるいはR10及びR11は、一緒に-C(R12)=C(R13)-C(R14)=C(R15)-であり; R12、R13、R14及びR15は、相互に独立に、水素、C1-C4アルキル、ハロゲン、フェニル、OR6、SR9、NR7R8、-S-フェニル、C2-C6アルコキシカルボニル、フェノキシカルボニル、CN、NO2、C1-C4ハロアルキル、S(O)nC1-C6アルキル、非置換又はC1-C12アルキル-置換S(O)n-C6-C12アリール、SO2O-C1-C6アルキル、SO2O-C6-C10アリール又はNHCONH2であり; Zは、CR11又はNであり; Z1は、-CH2-、S、O又はNR6である]で示される化合物。

IPC (8件)：

C07C381/00 ,  C07C309/65 ,  C07C309/66 ,  C07C309/73 ,  C07C323/63 ,  C07D333/36 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 503

FI (8件)：

C07C381/00 ,  C07C309/65 ,  C07C309/66 ,  C07C309/73 ,  C07C323/63 ,  C07D333/36 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 503 A

引用特許：

出願人引用 (5件)

• 高感度の高解像度i線ホトレジスト用のアルキルスルホニルオキシム類
  公報種別：公表公報   出願番号：特願平10-511058   出願人：チバスペシャルティケミカルズホールディングインコーポレーテッド
• オキシムスルホン酸エステルおよび潜伏性スルホン酸としてのそれらの使用
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-305834   出願人：チバ-ガイギーアクチエンゲゼルシャフト
• オキシムスルホネート化合物及びレジスト用酸発生剤
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-254214   出願人：東京応化工業株式会社
• アリールトリフレート化合物、放射線酸発生剤、放射線酸発生剤系及び感放射線組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-150549   出願人：日立化成工業株式会社
• 特開平4-225948
  

審査官引用 (6件)

• 高感度の高解像度i線ホトレジスト用のアルキルスルホニルオキシム類
  公報種別：公表公報   出願番号：特願平10-511058   出願人：チバスペシャルティケミカルズホールディングインコーポレーテッド
• オキシムスルホン酸エステルおよび潜伏性スルホン酸としてのそれらの使用
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-305834   出願人：チバ-ガイギーアクチエンゲゼルシャフト
• オキシムスルホネート化合物及びレジスト用酸発生剤
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-254214   出願人：東京応化工業株式会社
• アリールトリフレート化合物、放射線酸発生剤、放射線酸発生剤系及び感放射線組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-150549   出願人：日立化成工業株式会社
• 特開平4-225948
  
• 特開平4-225948