基板内における流体処理方法及びその装置

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出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：山川政樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-212150
公開番号（公開出願番号）：特開2003-130765
出願日： 2002年07月22日
公開日（公表日）： 2003年05月08日
要約：

【要約】【課題】微量の流体を正確な量を移動させることができる流体を移動する方法及びその装置を提供する。【解決手段】一方の面に微細チャネルが形成された弾性材質の基板の他面に基板を接合させた構造の基板を用い、基板の外部から機械的な圧力を加えるか、または、機械的圧力を加えた状態で圧力を加える位置を微細チャネルの長さ方向に移動させる。具体的構造は、内部に微細チャネルが形成された基板を固定するための基板固定台40と、外部から基板の表面に圧力を加える加圧手段としての固体構造物Sと、固体構造物Sまたは基板固定台40に連結され、固体構造物Sまたは基板固定台40の一方を微細チャネルの長さ方向に移動させる移動手段としての線形移動装置34とを備えている。

請求項（抜粋）：

内部に微細チャネルが形成された弾性高分子材質からなる基板に、外部から固体構造物により前記基板の表面に機械的圧力を加えて前記微細チャネル内の流体を処理することを特徴とする流体処理方法。

IPC (8件)：

G01N 1/00 101 , F04B 43/12 , G01N 1/14 , G01N 30/32 , G01N 30/60 , G01N 31/20 , G01N 35/10 , G01N 37/00 101

FI (10件)：

G01N 1/00 101 M , F04B 43/12 A , F04B 43/12 D , G01N 1/14 F , G01N 30/32 C , G01N 30/60 D , G01N 30/60 K , G01N 31/20 , G01N 37/00 101 , G01N 35/06 D

Fターム (28件)：

2G042HA02 , 2G042HA03 , 2G042HA04 , 2G042HA06 , 2G052AD26 , 2G052CA03 , 2G052CA08 , 2G052CA16 , 2G052CA18 , 2G052DA09 , 2G052ED07 , 2G052FB03 , 2G052FB09 , 2G052FD01 , 2G052HA02 , 2G052HA13 , 2G052JA03 , 2G052JA09 , 2G052JA16 , 2G058EA14 , 2G058EB17 , 2G058FA07 , 2G058GB03 , 3H077CC01 , 3H077CC04 , 3H077CC09 , 3H077CC10 , 3H077FF08

引用特許：

審査官引用 (5件)

特開昭60-104260
ミクロカラム分離技術における試料導入を制御するための方法及びその方法を使用するサンプリング装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-101977 出願人：チバ-ガイギーアクチエンゲゼルシャフト
マイクロケミカルデバイスの製造法
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-056438 出願人：財団法人川村理化学研究所

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