特許
J-GLOBAL ID：200903087332819724
半導体ウエハ裏面研削用粘着フィルムおよび半導体ウエハの裏面研削方法
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-073254
公開番号（公開出願番号）：特開平10-265741
出願日： 1997年03月26日
公開日（公表日）： 1998年10月06日
要約：
【要約】【課題】 温度変化により粘着力が変化する半導体ウエハ裏面研削用粘着フィルム、及び該フィルムを用いた半導体ウエハの裏面研削方法を提供する。【解決手段】 基材フィルムの片面に粘着剤層が設けられた半導体ウエハ裏面研削用粘着フィルムであって、該粘着剤層が、炭素数10〜50の脂肪族基を有するアクリル系モノマー等を共重合してなるベースポリマー100重量部、並びに、架橋剤0.1〜5重量部を含み、SUS304-BA板に対する粘着力がA°C〜40°Cの温度範囲において150〜2,000g/25mm、B°C〜C°Cの温度範囲に冷却した状態で100g/25mm以下であることを特徴とする半導体ウエハ裏面研削用粘着フィルム、および該粘着フィルムを用いた半導体ウエハの裏面研削方法。但し、0°C<A°C<40°C、-50°C≦B°C≦C°C≦(A-3)°C
請求項（抜粋）：
基材フィルムの片面に粘着剤層が設けられた半導体ウエハ裏面研削用粘着フィルムであって、該粘着剤層が、一般式(1)〔化1〕【化1】(式中、R<SB>1</SB>は-Hまたは-CH<SB>3</SB>、Xは-COOR<SB>2</SB>、-CONHR<SB>3</SB>、-OR<SB>4</SB>、-OCOR<SB>5</SB>、-R<SB>6</SB>または-C<SB>6</SB>H<SB>4</SB>-R<SB>7</SB>を示す。ここで、R<SB>2</SB>〜R<SB>6</SB>は炭素数が10〜50の脂肪族基、または少なくとも一部がフッ素置換された炭素数が6〜50の脂肪族基、R<SB>7</SB>は炭素数が8〜24のアルキル基を示す)の構造を有するモノマー群から選ばれた少なくとも一種のモノマー(I)40〜98重量%、架橋剤と架橋反応しうる官能基を有するモノマー(II)1〜30重量%、及び、モノマー(I)及び(II)と共重合可能なモノマー(III)1〜59重量%を必須成分として含むモノマー混合物を共重合して得られたベースポリマー100重量部、並びに、架橋剤0.1〜5重量部を含み、A°C〜40°C(0°C<A°C<40°C)の温度範囲においてSUS304-BA板に貼着したときの該温度範囲における粘着力が150〜2,000g/25mm、前記温度範囲でSUS304-BA板に貼着した状態でB°C〜C°C〔-50°C≦B°C≦C°C≦(A-3)°C〕の温度範囲に冷却したときのSUS304-BA板に対する粘着力が100g/25mm以下であることを特徴とする半導体ウエハ裏面研削用粘着フィルム。
IPC (9件)：
C09J 7/02
, B24B 37/04
, C09J123/02
, C09J125/02
, C09J129/10
, C09J131/04
, C09J133/06
, C09J133/24
, H01L 21/304 321
C09J 7/02 Z
, B24B 37/04 E
, C09J123/02
, C09J125/02
, C09J129/10
, C09J131/04 Z
, C09J133/06
, C09J133/24
, H01L 21/304 321 B
